[发明专利]一种规整纳米层状结构高分子薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种规整层状结构高分子薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

1）将含羧基基团的高分子聚合物溶于去离子水中，在20-50℃下搅拌1-4 h，配制成质量浓度为1% - 5%的高分子水溶液；

2）将稀土盐溶解于去离子水中，配制成摩尔浓度为0.01~0.1 mol/L的稀土离子水溶液；

3）将所述高分子溶液加入带开口槽的模具中，并完全浸泡在稀土离子溶液中，避免碰撞模具，在10-60℃条件下静置6-12 h，获得高分子-稀土离子水凝胶；

4）将所述高分子-稀土离子水凝胶冷冻，冷冻条件是-40~0℃，冷冻时间为10~60 min，获得高分子-稀土离子水凝胶冷冻物；

5）将所述高分子-稀土离子水凝胶冷冻物放入冷冻干燥箱中，真空冷冻干燥6~12 h，获得具有规整纳米层状结构的高分子薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种规整纳米层状结构高分子薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1）中的含羧基的高分子聚合物为海藻酸钠、羧基改性壳聚糖或羧甲基纤维素钠。

3.根据权利要求1或2所述的一种规整纳米层状结构高分子薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2）中的稀土离子是钕离子、钆离子、镱离子、铈离子或铕离子，所述步骤2）中的稀土盐为六水合稀土氯化物。