[发明专利]有机电致发光器件及其制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710054046.5 申请日: 2017-01-22
公开(公告)号: CN108346746B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 敖伟;闵超;李维维;刘金强;罗志忠;刘玉成 申请(专利权)人: 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机电致发光器件 金属氢化物 金属氧化物 显示装置 阻挡层 损伤 金属氧化物层 化学键 器件层 阴极层 键能 制造
【说明书】:

发明提供了一种有机电致发光器件及其制造方法、显示装置,所述有机电致发光器件增加了位于阴极层上的阻挡层,所述阻挡层为金属氧化物层或金属氢化物层,由于金属氢化物或金属氧化物的原子间化学键键能较强,需要较大的能量才能对金属氢化物或金属氧化物产生损伤,因此可以有效的防止CVD工艺给有机电致发光器件的器件层带来的损伤,进而提高了有机电致发光器件的性能。

技术领域

本发明涉及电致发光技术领域,特别涉及一种有机电致发光器件及其制造方法、显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(Organic Light Emitting Display,OLED)具有自主发光、低电压直流驱动、视角宽、重量轻、可制作大尺寸与可弯曲的面板、工艺简单等一系列特点,且具有低成本的潜力,能够满足当今信息科技时代对显示技术更高性能和更大信息容量的要求,成为目前科学界和产业界最热门的课题之一。

一般,制备有机电致发光器件过程中会用到薄膜封装方法对器件进行封装,常采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)工艺进行薄膜封装,而CVD工艺会对OLED的器件层产生损伤。

针对上述问题,本领域技术人员一直在寻找解决该问题的有效方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种有机电致发光器件及其制造方法、显示装置,以解决CVD工艺会对OLED的器件层产生损伤的问题。

为解决上述技术问题,本发明提供一种有机电致发光器件,所述机电致发光器件包括依次层叠在基板上的阳极层、有机发光层、阴极层和阻挡层,所述阻挡层为金属氧化物层或金属氢化物层。

可选的,在所述的有机电致发光器件中,还包括位于所述阻挡层上的薄膜封装层。

可选的,在所述的有机电致发光器件中,还包括CPL层,所述CPL层位于所述阻挡层和薄膜封装层之间,或位于所述阴极层和阻挡层之间。

可选的,在所述的有机电致发光器件中,所述金属氢化物为硼氢化钾或硼氢化钠。

可选的,在所述的有机电致发光器件中,所述金属氧化物为氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒。

本发明还提供一种显示装置,所述显示装置包括:采用所述的有机电致发光器件。

本发明还提供一种有机电致发光器件的制造方法,所述有机电致发光器件的制造方法包括:

提供一基板;

依次形成于所述基板上的阳极层、有机发光层和阴极层;以及

形成于所述阴极层上的阻挡层,其中所述阻挡层由金属氧化物或金属氢化物制备形成。

可选的,在所述的有机电致发光器件的制造方法中,采用蒸镀方式制备依形成所述阳极层、所述有机发光层、所述阴极层和/或所述阻挡层。

可选的,在所述的有机电致发光器件的制造方法中,采用等离子体增强气相化学沉积、丝网印刷或热蒸发的方式形成所述薄膜封装层。

在本发明所提供的有机电致发光器件及其制造方法、显示装置中,所述有机电致发光器件增加了位于阴极层上的阻挡层,所述阻挡层为金属氧化物层或金属氢化物层,由于金属氢化物或金属氧化物的原子间化学键键能较强,需要较大的能量才能对金属氢化物或金属氧化物产生损伤,因此可以有效的防止CVD工艺给有机电致发光器件的器件层带来的损伤,进而提高了有机电致发光器件的性能。

附图说明

图1是本发明一实施例中有机电致发光器件的结构示意图;

图2是本发明另一实施例中有机电致发光器件的结构示意图。

图中:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司,未经昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710054046.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top