[发明专利]探测人体微血管超微结构的三维成像装置有效
申请号: | 201710053895.9 | 申请日: | 2017-01-24 |
公开(公告)号: | CN106580265B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 董蒨;于綦悦;魏宾;夏楠 | 申请(专利权)人: | 青岛大学 |
主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00 |
代理公司: | 青岛清泰联信知识产权代理有限公司 37256 | 代理人: | 高洋 |
地址: | 266071 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 探测 人体 微血管 超微结构 三维 成像 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种利用光学成像技术进行医学诊断的医疗器械,具体的说是一种探测人体微血管超微结构的三维成像装置。
背景技术
微循环是指微动脉与微静脉之间的血液与组织细胞进行物质交换的场所。微循环的功能,形态和代谢的完整是维持人体器官正常功能所不可缺少的条件。通过微循环的研究,便于进一步了解人体各脏器的特殊功能,认知疾病的发病机理,有利于疾病预防,诊断和治疗。各种不同的疾病状态包括糖尿病,高血压和冠心病等,都会引起微循环的病态,包括微血管管径,微血管密度以及微血管内的微血流速度等参数的变化,还能够对微血管内皮细胞以及微血管内流动的血细胞进行观测。因此通过了解微血流情况来把握微循环质量,对于各类疾病的诊断和治疗有着极其重要的作用。微血流情况对健康和疾病诊疗如此重要,对微血管超微结构情况进行高精度的数字化定量化,实现精确诊疗就有重大的必要性。为了实现利用微血管超微结构的精确诊疗,必不可少的需要能够在无创的情况下对微血管超微结构进行实时高清晰成像并数字化的“无创动态微血管超微结构观测系统”。
在医学领域,透过皮肤无创地对身体内部进行成像的方式有很多,例如,计算机断层成像(CT)技术以及核磁共振成像(MRI)技术等等。虽然这些技术产生的早,发展成熟,但是由于设备体积大,分辨率低,实时性差等缺点并不适合对微血流成像进行使用。其中,侧流暗场(SDF)成像技术是对于微血流进行成像的一种新技术。
在医学领域,透过皮肤无创地对身体内部进行成像的方式有很多,例如,计算机断层成像(CT)技术以及核磁共振成像(MRI)技术等等。虽然这些技术产生的早,发展成熟,但是由于设备体积大,分辨率低,实时性差等缺点并不适合对微血流成像进行使用。其中,侧流暗场(SDF)成像技术和正交偏振光谱(OPS)成像技术是对于微血流进行成像的两种常用技术。
然而,常规的正交偏振光谱(OPS)成像技术中,由于偏振板对于正交偏振光的反射能力有上限,偏振反射光不能100%被过滤掉而造成成像中背景噪声过大,为了解决这个问题,侧流暗场(SDF)成像技术在2007年被提出,其原理如图1所示。
侧流暗场成像技术中,首先采用环形LED照明围绕在成像显微镜头周围,LED发出的光源同OPS成像技术一样,是特殊波长的光,但不是偏振光。LED光从显微镜头周围环形的照射到皮肤上,在皮肤表面发生散射的同时在皮肤内部发生散射。因为显微镜头距离皮肤很近,环状照射到皮肤上又反射回来的光很难进入镜头成像,而内部散射光的照射方向是随机的,会有一部分照射到显微镜头而在CCD上成像。这样就避免了皮肤表面反射直接对微微血管超微结构进行成像。
在以往的侧流暗场成像技术中,只能呈现二维图像。利用对二维成像的分析虽然能够对微血流流速,微血管管径,以及横切面微血管密度进行定量化数字化,但由于二维成像无法取得深度信息,因此对于纵切面的微血管密度和微血管形状进行分析,二维成像并不能满足要求。这时就需要对成像设备进行改进,使其具有三维测量的能力,能够对微血管进行三维测量以获取深度信息,精确地对纵切面的微血管密度、微血管形状以及微血管内皮细胞和血细胞形态等微血管超微结构进行数字化定量化。
发明内容
根据上述不足之处,本发明的目的在于提供一种探测人体微血管超微结构的三维成像装置。
为实现上述目的,本发明的技术方案在于:一种探测人体微血管超微结构的三维成像装置,至少包括:
用于发射多束准直且平行出射光的光源模块;
用于将出射光调整为圆偏振光的调光单元;
用于将多束出射光按照顺序照射到暗视野物镜中的阵列反射单元;
用于将光线部分反射,部分透过的分光单元;
用于将依次射入的环状入射光集中照射在焦点位置的暗视野物镜;
用于成像的成像单元;
用于呈现图像的呈像模块。
优选的是:所述的光源模块包括光源和设置在出射光方向上用于将光源调整成为多束准直平行岀射的阵列透射单元。
优选的是:所述的阵列透射单元为微透镜阵列。
优选的是:所述的阵列反射单元为微反射镜阵列。
优选的是:所述的微反射镜阵列的阵列设置与微透镜阵列的阵列设置相对应。
优选的是:所述的调光单元位于光源与阵列透射单元之间或者位于阵列透射单元与阵列反射单元之间或者位于阵列反射单元与分光单元之间或者位于分光单元与暗视野物镜之间或者位于暗视野物镜的前端。
优选的是:所述的调光单元为1/4波长板或者1/4相位差膜。
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