[发明专利]射频功率放大器在审

专利信息
申请号: 201710049852.3 申请日: 2017-01-23
公开(公告)号: CN106817093A 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 刘海玲;黄清华;路宁;陈高鹏 申请(专利权)人: 宜确半导体(苏州)有限公司
主分类号: H03F1/30 分类号: H03F1/30;H03F3/193;H03F3/21;H03F3/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 刘剑波
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 射频 功率放大器
【说明书】:

发明公开一种射频功率放大器,涉及通信领域。其中射频功率放大器包括功率放大模块和控制模块,功率放大模块中包括功率放大电路和镜像电流生成电路,控制模块与功率放大电路和镜像电流生成电路连接,功率放大电路根据控制模块提供的偏置电压对输入信号RFin进行功率放大以生成输出信号RFout,镜像电流生成电路与功率放大电路连接,用于根据功率放大电路中的工作电流生成相应的镜像电流,控制模块给功率放大电路提供偏置电压,并根据所述镜像电流调整提供给功率放大电路的偏置电压。本发明通过利用功率放大器工作电流的反馈,对提供给功率放大器的偏置电压进行动态调整,从而能够保证晶体管的工作安全,能够使射频功率放大器在设计上更加灵活。

技术领域

本发明涉及通信领域,特别涉及一种射频功率放大器。

背景技术

射频功率放大器是各种无线通信应用中必不可少的关键部件,用于将收发信机输出的已调制射频信号进行功率放大,以满足无线通信所需的射频信号的功率要求。射频功率放大器属于大信号器件,因此要求用于制造射频功率放大器的半导体器件具有高击穿电压、高电流密度等特性。

如图1所示为现有技术中GSM功率放大器的功率控制方案,在GSM射频功率放大器芯片101中,包括了功率放大器管芯102及功率控制器管芯103,其中功率放大器管芯102中设有功率放大器104和105。其中RFin为输入端口,RFout为输出端口,功率控制信号Vramp控制功率控制器管芯103上的电路,通过控制PMOS晶体管P1漏极输出的直流电压大小,亦即功率放大器管芯102的工作电压大小,来控制射频功率放大器输出的功率大小。在这种控制方式中,射频功率放大器管芯所需的所有工作电流都由PMOS晶体管P1提供,因此通常PMOS晶体管P1的总栅宽高达20毫米以上,使得功率控制器管芯的芯片面积较大且成本较高;同时,由于PMOS晶体管P1导通电阻的影响,GSM射频功率放大器的效率也被较大程度地损耗。

如图2所示为一个典型的射频功率放大器电路,晶体管203作为射频功率放大器中的重要有源器件,在实际中通常采用Si或GaAs工艺制造;射频功率放大器的输入信号端口RFin通过输入匹配网络201连接到晶体管203的栅极;晶体管203的栅极还通过偏置电路202连接到射频功率放大器的偏置电压端口Vbias;晶体管203的源极连接到地;晶体管203的漏极通过扼流电感204连接到射频功率放大器的供电电压端口Vcc;供电电压端口Vcc还连接到去耦电容205的一端,去耦电容205的另外一端连接到地;晶体管203的漏极还通过输出匹配网络206连接到射频功率放大器的输出信号端口RFout。射频功率放大器的输入信号电压摆幅较低,经过晶体管203功率放大之后,输出信号的电压摆幅大幅提升。

对于一个典型的Class-A/B/AB射频功率放大器,在供电电压Vcc下工作,晶体管漏极上的电压摆幅通常可以达到2×Vcc。譬如,当射频功率放大器的供电电压Vcc为5V时,晶体管漏极上的电压摆幅将达到10V。如果射频功率放大器工作于Class-E状态,那么晶体管漏极上的电压摆幅将会更高,达到3.5×Vcc以上。由此可见,射频功率放大器中的晶体管上将承受远高于供电电压的摆幅,对晶体管的击穿电压及可靠性提出了很高的要求。选用足够高击穿电压的半导体工艺来制造射频功率放大器,将使得选择余地严重受限,丧失了设计灵活性并将降低集成度。

因此,需要一种GSM射频功率放大器,并具有新颖的功率控制方案,以克服上述缺陷。

发明内容

本发明实施例提供一种射频功率放大器,通过利用功率放大器工作电流的反馈,对提供给功率放大器的偏置电压进行动态调整,从而能够保证晶体管的工作安全,同时能够使得射频功率放大器在设计上更加灵活。

根据本发明的一个方面,提供一种射频功率放大器,包括功率放大模块和控制模块,功率放大模块中包括功率放大电路和镜像电流生成电路,控制模块与功率放大电路和镜像电流生成电路连接,其中:

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