[发明专利]曝光装置在审
| 申请号： | 201710046251.7 | 申请日： | 2017-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN107015442A | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 关家一马 | 申请（专利权）人： | 株式会社迪思科 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉,于靖帅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光装置，其中，
该曝光装置具有光源、照明光学系统、掩模以及投影光学系统，
该掩模构成为形成有多个小掩模，该小掩模由将构成1个器件的图案分割成多个区域而得的小图案构成，
该投影光学系统由与该小掩模对应的大小构成，该小图案被缩小投影在基板上。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
所述小掩模配设在掩模选择单元中，该掩模选择单元选择性地定位在所述投影光学系统上，小图案被缩小投影在构成1个器件的区域所需的位置处。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，
所述小图案被缩小投影成一部分相重叠而使配线的图案连结。
4.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，
所述小图案被缩小投影成不重叠，对配线用图案进行缩小投影而使该小图案与该小图案的配线连结。
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
供所述小图案进行缩小投影的基板的大小为直径为10mm～20mm。
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