[发明专利]一种血液分析仪液流系统流动室

权利要求书

1.一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：包括第一抛光基片，所述第一抛光基片上设有两个平行的第二抛光基片、第三抛光基片，所述第二抛光基片和第三抛光基片上设有第四抛光基片，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片之间设有构成流动室内孔的缝隙孔，所述第二抛光基片和第三抛光基片之间预留的距离为缝隙孔的宽度，研磨抛光后的所述第二抛光基片和第三抛光基片的厚度为缝隙孔的高度，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片通过高温键合连接在一起形成一个整体，所述缝隙孔的两端设有圆形扩孔，所述圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔。

2.根据权利要求1所述的一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，其中λ为632.8nm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm。

3.根据权利要求1所述的一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：构成流动室内孔的所述缝隙孔尺寸小于0.2x0.2mm。

4.根据权利要求1所述的一种血液分析仪液流系统流动室，其特征在于：所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10。

5.一种制备权利要求1所述的血液分析仪液流系统流动室的制备方法，其特征在于：其包括如下步骤：

S1：第一次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的表面进行加工，加工后的质量要求为：基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm，基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm，基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，基片中四条长棱线崩边<0.02mm；

S2：第一次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第二抛光基片、第三抛光基片光胶在第一抛光基片的抛光表面光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片的两端左右靠齐，第二抛光基片和第三抛光基片之间预留距离作为流动室内孔的缝隙孔宽度，不得凹凸不平，光胶是根据分子间扩散原理使表面光滑的两件物体通过分子吸引力粘接在一起；

S3：第一次高温烘烤键合：将深化光胶后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第一次高温烘烤键合包括四个阶段：

A加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1120℃~1200℃，升温速率为1℃-20℃/分钟；

B恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12-48小时；

C慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃-5℃/分钟；

D快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃-30℃/分钟；

S4：第二次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的表面进行加工，将第二抛光基片和第三抛光基片的厚度研磨至流动室内孔要求的缝隙孔高度，加工后的质量要求为：组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；

S5：第二次深化光胶粘接：采用深化光胶工艺，将第四抛光基片光胶在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片和第三抛光基片组合件的抛光表面，光胶定位时保证第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端左右靠齐，不得凹凸不平；

S6：第二次高温烘烤键合：将深化光胶后的第四抛光基片和第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片组合件放置于烘箱中烘烤键合，第二次高温烘烤键合包括四个阶段：

E加热阶段：在一定时间内将耐高温的石英玻璃加热到温度介于应力变化点和退火点之间，即将加热耐高温石英玻璃加热到1120℃~1200℃，升温速率为1℃-15℃/分钟；

F恒温阶段：将石英玻璃加热到退火点温度后进行保温，恒温时间控制为12-48小时；

G慢热阶段：在恒温处理后缓慢降低石英玻璃温度，将石英玻璃温度降低到应力变化点温度，降温速率控制为0.1℃-5℃/分钟；

H快冷阶段：在石英玻璃温度降低到应力变化点温度后，继续降温，石英玻璃温度低于900℃以下时，降温速率控制在1℃-20℃/分钟；

S7：第三次研磨抛光冷加工：通过研磨抛光冷加工工艺，对由第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温烘烤键合形成的整体组合件表面进行加工，加工后的质量要求为：整体组合件每个平面的平面度误差小于λ/8，整体组合件中相对面的平行度误差小于0.0005mm，整体组合件表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，整体组合件中四条长棱线崩边<0.02mm；

S8：整体组合件两端钻孔成型：在高温烘烤键合后的第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片的两端钻出圆形扩孔，圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔，钻孔后经过清洗烘干后处理得到血液分析仪液流系统流动室产品。

6.根据权利要求5所述的一种血液分析仪液流系统流动室的制备方法，其特征在于：所述步骤S3第一次高温烘烤键合与S6第二次高温烘烤键合中的加热阶段升温速率、慢热阶段降温速率和快冷阶段降温速率各自选取不同的参数值。