[发明专利]一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃在审
| 申请号： | 201710038793.X | 申请日： | 2017-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN106584997A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 武瑞军;米永江;李奎 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B33/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人： | 孙仿卫,陈婷婷 |
| 地址： | 215222 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 性能 单银低 辐射 镀膜 中空玻璃 | ||
1.一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片、外玻璃基片、连接在所述内玻璃基片与外玻璃基片之间的中空层，其特征在于：所述外玻璃基片的内侧面镀有复合膜层，所述的复合膜层由底层氧化钛层、氧化锌层、银层、镍铬层、顶层氧化钛层自所述外玻璃基片的内侧面向内依次层叠而成，其中，所述底层氧化钛层的厚度为10nm~35nm；所述氧化锌层的厚度为4nm~10nm；所述银层的厚度为12nm~15nm；所述顶层氧化钛层的厚度为20nm~40nm。
2.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述镍铬层的厚度为1nm~10nm。
3.根据权利要求2所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述镍铬层的厚度为4nm~6nm。
4.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述底层氧化钛层的厚度为20nm~28nm。
5.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述氧化锌层的厚度为4.5nm~6nm。
6.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述顶层氧化钛层的厚度为28nm~38nm。
7.根据权利要求1至6任一所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/TiO2，各膜层的厚度分别为26nm/5nm/12.4nm/1.2nm /28.3nm。
8.根据权利要求1至6任一所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/TiO2，各膜层的厚度分别为22nm/4.5nm/13.2nm/5.7nm/36nm。
9.根据权利要求1至6任一所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/TiO2，各膜层的厚度分别为20nm/4.7nm/12.8nm/4.1nm/38nm。
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