[发明专利]一种隔离膜及其制备方法和用途在审

专利信息
申请号: 201710036167.7 申请日: 2017-01-17
公开(公告)号: CN108321337A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 程跃;邓洪贵;王丽华;何方波;王伟强 申请(专利权)人: 上海恩捷新材料科技股份有限公司
主分类号: H01M2/14 分类号: H01M2/14;H01M2/16
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张睿
地址: 201399 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 隔离膜 制备 耐热聚合物 氧化物填料 多孔基膜
【权利要求书】:

1.一种隔离膜,其特征在于,所述隔离膜包括多孔基膜、耐热聚合物和氧化物填料。

2.如权利要求1所述的隔离膜,其特征在于,所述耐热聚合物选自下述的一种或两种以上:芳香族聚酰胺类、聚酰亚胺类、聚酰胺类、聚苯硫醚类、聚砜类、聚酮和聚醚酰亚胺。

3.如权利要求1所述的隔离膜,其特征在于,所述氧化物填料选自三氧化二铝、γ-氢氧化铝、二氧化硅、或氧化镁。

4.如权利要求3所述的隔离膜,其特征在于,所述氧化物填料的粒径为0.1-1.5μm;优选0.1-1.0μm。

5.一种如权利要求1-4任一项所述的隔离膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括步骤:

(1)使耐热聚合物和氧化物填料在溶剂中形成复合物;

(2)将复合物涂覆于多孔基膜上;

(3)干燥后得到如权利要求1-4任一项所述的隔离膜。

6.如权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述耐热聚合物和氧化物填料的质量比为100﹕(3-30);优选100﹕(5-25);更优选100﹕(5-10)。

7.如权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述的溶剂选自下述的一种或两种以上:N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、四氢呋喃(TFH)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、和二甲基亚砜(DMSO);优选地,所述溶剂中含有助溶剂;所述助溶剂为氯化锂和/或氯化钙。

8.一种如权利要求1-4任一项所述的隔离膜在制备电化学装置中的用途。

9.一种电化学装置,其特征在于,所述锂离子电池包括正极、负极、位于正极和负极之间的如权利要求1-4任一项所述的隔离膜。

10.一种耐热聚合物在制备电化学装置隔离膜中的应用,所述耐热聚合物选自下述的一种或两种以上:芳香族聚酰胺类、聚酰亚胺类、聚酰胺类、聚苯硫醚类、聚砜类、聚酮和聚醚酰亚胺;所述耐热聚合物在制备电化学装置隔离膜中与氧化物填料合用;所述氧化物填料选自三氧化二铝、γ-氢氧化铝、二氧化硅、或氧化镁。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海恩捷新材料科技股份有限公司,未经上海恩捷新材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710036167.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top