[发明专利]像素结构与具有此像素结构的显示装置

权利要求书

1.一种像素结构，设置于一基板，其特征在于，包含：

一凸块，设置于该基板；

一第一绝缘层，设置于该基板并覆盖该凸块，其中该第一绝缘层覆盖该凸块处具有一突起部；

一半导体层，设置于该第一绝缘层上，并且至少部分该半导体层设置于该突起部上方；

一第二绝缘层，设置于该第一绝缘层上并覆盖该半导体层，其中该第二绝缘层具有一通孔，以使部分该半导体层未被该第二绝缘层覆盖，其中该通孔于垂直该基板的一方向上对应于该突起部；

一金属层，通过该第二绝缘层的该通孔电性连接至该半导体层，其中该凸块于该基板的垂直投影落于该金属层于该基板的垂直投影内；以及

一像素电极，电性连接该半导体层。

2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，还包含：

一平坦层，覆盖该金属层及该第二绝缘层，且该凸块位于该基板与该平坦层之间，其中该平坦层具有一凹陷部，该凹陷部位于该平坦层相对于该金属层的上表面，其中该凹陷部于该基板的垂直投影至少与该通孔部分重叠，且该凹陷部的最大深度小于100纳米。

3.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，还包含：

一平坦层，覆盖该金属层及该第二绝缘层，且该凸块位于该基板与该平坦层之间；以及

一显示介质层，设置于该平坦层上，并具有多个显示介质。

4.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该凸块于该基板的垂直投影自该通孔内沿该金属层的延伸方向延伸至该通孔外。

5.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该凸块的厚度为T1，该半导体层的厚度为T2，且1.5≤T1/T2≤5。

6.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该凸块的厚度为T1，且100纳米≤T1≤250纳米。

7.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该第一绝缘层及该第二绝缘层分别由单层或多个介电层所形成。

8.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该金属层至少部分作为数据线，且该至少部分半导体层具有与该数据线相同的延伸方向。

9.如权利要求8所述的像素结构，其特征在于，该至少部分半导体层于垂直该基板的方向上与该金属层重叠设置。

10.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，还包含：

一遮光层，设置以使该金属层位于该遮光层与该凸块之间，其中该凸块于该基板的垂直投影落于该遮光层于该基板的垂直投影内。

11.一种显示装置，其特征在于，包含：

一显示面板，具有一显示区及一周边区，其中该周边区设置以围绕该显示区；以及

如权利要求1至10中任意一项所述的像素结构，设置于该显示面板的该显示区内。