[发明专利]一种同轴照明的线视场色散样板干涉仪

权利要求书

1.一种同轴照明的线视场色散样板干涉仪，其特征是：包括白光扩展光源、标准样板、孔径光阑、成像透镜、场镜、狭缝、色散元件、中继透镜、面阵探测器、干涉仪本体、分光镜；

所述白光扩展光源为线光源或面光源；

所述标准样板为左侧表面与被测玻璃右侧表面面形相匹配的反射面，标准样板反射面的反射率为被测面的反射率的1/6倍至6倍；

所述分光镜为分光薄膜、分光平板或分光棱镜；

所述成像透镜为正透镜；

所述场镜为平凸透镜；

所述色散元件为色散棱镜、光栅或棱栅；

所述中继透镜为正透镜；

所述面阵探测器为面阵电荷耦合元件或面阵互补金属氧化物半导体；

成像透镜、场镜和中继透镜依次共轴排列，色散元件设置在场镜和中继透镜之间，面阵探测器设置在中继透镜的左侧，形成光学测量系统；其中场镜的平面一侧朝向成像透镜，且场镜的平面一侧设置有狭缝，孔径光阑设置在成像透镜处；被测玻璃右侧表面贴合在标准样板的左端面上，形成待测系统，其中被测玻璃的右侧表面作为被测面，被测玻璃左侧表面作为非被测表面；待测系统放置在光学测量系统中成像透镜的右端，待测系统中被测玻璃的被测面与光学测量系统的光轴垂直，待测系统中被测玻璃的母线与狭缝的延伸方向平行；分光镜位于光学测量系统与待测系统之间，分光镜的分光面与光学测量系统的光轴夹角为20度至60度之间，且被测玻璃的被测面与场镜的前表面相对于成像透镜物像共轭，孔径光阑位于场镜的物方焦平面上，色散元件的色散方向同时垂直于狭缝的延伸方向和光轴方向；面阵探测器靶面垂直于光轴、面阵探测器靶面的行方向平行或垂直于色散元件的色散方向；面阵探测器靶面位于狭缝经场镜、色散元件和中继透镜成像的像面上；白光扩展光源的设置位置能保证光源在被测母线处反射的光线能够充满孔径光阑；光学测量系统及白光扩展光源通过干涉仪本体支撑固定。