[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201710024600.5 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN106783889B | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 张俊;史高飞;周如;占建英 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/84;H01L21/027;G02F1/1362 |
代理公司: | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,包括显示区域和周边区域,其特征在于,所述周边区域设置有第一电极线,所述第一电极线上设置有绝缘层,所述绝缘层上对应所述第一电极线所在的位置设置有第一过孔,所述第一过孔中设置有接触电极,所述绝缘层上设置有第二电极线,所述第二电极线通过所述接触电极与所述第一电极线电连接;
所述第一电极线为与栅极的材料相同且同层设置的金属线,所述第二电极线为与源漏极的材料相同且同层设置的金属线,所述接触电极与位于显示区域的像素电极的材料相同且同层设置;
所述第二电极线上设置有钝化层,在所述钝化层上且不同于所述第一过孔所处区域设置有第二过孔,所述钝化层上设置有公共电极,所述公共电极通过所述第二过孔与所述第二电极线连接。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述接触电极在衬底基板上的正投影至少覆盖所述第一过孔的底部在所述衬底基板上的正投影。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述接触电极的材料包括金属氧化物。
4.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-3任一所述的显示基板。
5.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上沉积第一金属层;
通过一次构图工艺在显示区域形成栅极以及在周边区域形成第一电极线;
沉积绝缘层;
通过构图工艺在所述周边区域的绝缘层上对应所述第一电极线所在的位置形成第一过孔;
沉积导电材料层;
通过一次构图工艺在所述显示区域形成像素电极以及在所述周边区域的第一过孔中形成接触电极;
沉积第二金属层;
通过一次构图工艺在所述显示区域形成源漏极以及在所述周边区域的绝缘层上形成第二电极线,所述第二电极线通过所述接触电极与所述第一电极线电连接;
在所述第二电极线上形成钝化层,在所述钝化层上且不同于所述第一过孔所处区域设置有第二过孔;
在所述钝化层上形成公共电极,所述公共电极通过所述第二过孔与所述第二电极线连接。
6.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述接触电极的材料包括金属氧化物。
7.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述通过构图工艺在所述周边区域的绝缘层上对应所述第一电极线所在的位置形成第一过孔的步骤之前包括:
通过构图工艺在所述显示区域形成半导体层。
8.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述接触电极在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述第一过孔的底部在所述衬底基板上的正投影。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的