[发明专利]一种硅片上料/下料传输系统及其工作方法有效

专利信息
申请号: 201710021386.8 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN108305846B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 马哲国;胡宏逵;陈金元 申请(专利权)人: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 传输 系统 及其 工作 方法
【权利要求书】:

1.一种硅片上料传输系统,其特征在于:包括:

带有凹槽的托盘;

多个上端开口且均匀排布的花篮,所述花篮内沿竖直方向堆叠有多片硅片,相邻的两个花篮的中心距为所述相邻凹槽中心距的整数倍;

上料吸盘机械手,用于将所述硅片从所述花篮取出并放置到所述托盘的凹槽内,所述上料吸盘机械手同一次放置后的硅片在托盘上并不相邻,它们之间会存在凹槽空位,所述上料吸盘机械手包括:上料机械臂、固定设置于所述上料机械臂下端的吸盘、控制吸盘对硅片进行吸起或放置动作的控制单元,所述吸盘位置与至少一部分的所述花篮的位置相对应。

2.根据权利要求1所述的一种硅片上料传输系统,其特征在于:所述控制单元将所述硅片的放置动作设置为多次,所述上料机械臂在每相邻两次放置动作的间隔时间内移动的距离为所述相邻凹槽中心距的整数倍。

3.根据权利要求1所述的一种硅片上料传输系统,其特征在于:所述花篮侧壁上设有开口,为设置在所述花篮外的定位元件的移动提供通道,以对所述硅片进行定位。

4.一种硅片上料传输系统的工作方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:

第一步,提供多个上端开口且均匀排布的花篮和带有凹槽的空置托盘,所述花篮内沿竖直方向堆叠有多片硅片,相邻的两个花篮的中心距为所述相邻凹槽中心距的整数倍;

第二步,使所述花篮内的硅片位于定位面并完成定位处理;

第三步,上料吸盘机械手将至少一部分花篮内的硅片吸起并移至所述托盘上方;

第四步,所述上料吸盘机械手将所述硅片放置于所述托盘上后再移回至所述花篮上方,其中所述上料吸盘机械手同一次放置后的硅片在托盘上并不相邻,它们之间会存在凹槽空位;

第五步,重复上述第二步至第四步,直至所述托盘上填满硅片为止。

5.根据权利要求4所述的一种硅片上料传输系统的工作方法,其特征在于:第四步中所述上料吸盘机械手将所述硅片分多次放置于所述托盘上,所述上料机械臂在每相邻两次放置动作的间隔时间内移动的距离为所述相邻凹槽中心距的整数倍。

6.一种硅片下料传输系统,其特征在于:包括:

带有凹槽的托盘,所述凹槽内装有硅片;

多个上端开口且均匀排布的花篮,相邻的两个花篮的中心距为所述相邻凹槽中心距的整数倍;

下料吸盘机械手,用于将所述硅片从所述托盘的凹槽中取出并放置在所述花篮内,所述下料吸盘机械手包括:下料机械臂、固定设置于所述下料机械臂下端的吸盘、控制吸盘对硅片进行吸起或放置动作的控制单元,所述吸盘位置与所述托盘上至少一部分的硅片的位置相对应,其中所述下料吸盘机械手同一次吸起的硅片在托盘上并不相邻,它们之间会存在凹槽空位。

7.根据权利要求6所述的一种硅片下料传输系统,其特征在于:所述控制单元将所述硅片的放置动作设置为多次,所述下料机械臂在每相邻两次放置动作的间隔时间内移动的距离为所述相邻两个花篮中心距的整数倍。

8.一种硅片下料传输系统的工作方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:

第一步,提供多个上端开口且均匀排布的花篮和带有凹槽的托盘,所述凹槽内装有硅片,相邻的两个花篮的中心距为所述凹槽中心距的整数倍;

第二步,下料吸盘机械手将至少一部分托盘内的所述硅片吸起并移至所述花篮上方,其中所述下料吸盘机械手同一次吸起的硅片在托盘上并不相邻,它们之间会存在凹槽空位;

第三步,所述下料吸盘机械手将所述硅片放置于所述花篮上后再移回至所述托盘上方;

第四步,重复上述第二步和第三步,直至所述托盘上硅片取尽。

9.根据权利要求8所述的一种硅片下料传输系统的工作方法,其特征在于:第四步中所述下料吸盘机械手将所述硅片分多次放置于所述花篮内,所述下料机械臂在每相邻两次放置动作的间隔时间内移动的距离为所述相邻两个花篮中心距的整数倍。

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