[发明专利]增材沉积系统和方法

权利要求书

1.一种增材沉积系统，包括：

气溶胶生成设备，所述气溶胶生成设备构造成生成增材材料的气溶胶；

气溶胶充电设备，所述气溶胶充电设备构造成将所生成的增材材料的气溶胶静电充电至第一极性；

薄层充电设备，所述薄层充电设备构造成在基材层表面上感应均匀的薄层静电电荷；

选择性充电设备，所述选择性充电设备构造成选择性地改变其上被感应均匀的薄层静电电荷的基材层表面的静电电荷；以及

所充电的增材材料的气溶胶由于所充电的增材材料的气溶胶与所述基材之间的静电势而通过静电力选择性地沉积到电荷改变的基材上。

2.根据权利要求1所述的增材沉积系统，其中，所述气溶胶生成设备是长丝延伸雾化器。

3.根据权利要求1所述的增材沉积系统，其中，所述增材材料是聚合物。

4.根据权利要求1所述的增材沉积系统，其中，所述选择性充电设备基于输入选择性地改变所述基材层表面的静电电荷。

5.根据权利要求1所述的增材沉积系统，其中，选择性地改变所述基材层表面的静电电荷包括改变极性或静电荷密度中的至少一者。

6.根据权利要求1所述的增材沉积系统，还包括基材充电设备，所述基材充电设备构造成利用具有第二极性的静电电荷均匀地静电充电所述基材层表面。

7.根据权利要求6所述的增材沉积系统，其中，所述第一极性和所述第二极性基本相同，所述选择性充电设备将所述基材表面层的静电电荷选择性地改变成与所述第一极性和所述第二极性相反的极性以及基本中性状态中的至少一者。

8.根据权利要求6所述的增材沉积系统，其中，所述第一极性和所述第二极性基本相反，所述选择性充电设备将所述基材表面层的静电电荷选择性地改变成与所述第一极性相似的极性和基本中性状态中的至少一者。

9.根据权利要求1所述的增材沉积系统，还包括气溶胶沉积通路，所述气溶胶沉积通路邻近所述基材定位并且构造成越过布置在所述沉积通路上的开口，平行于所述基材引导所述充电气溶胶，所述充电气溶胶的至少一部分被引导接近所述开口并且通过静电力沉积到所述基材表面层上。

10.一种增材沉积系统，包括：

长丝延伸雾化器，所述长丝延伸雾化器构造成生成聚合物的气溶胶；

气溶胶充电设备，所述气溶胶充电设备构造成将雾化的聚合物静电充电至第一极性；

薄层充电设备，所述薄层充电设备构造成在基材层表面上感应均匀的薄层静电电荷；

离子沉积装置，所述离子沉积装置构造成选择性地改变其上被感应均匀的薄层静电电荷的所述基材层表面的静电电荷；以及

所充电的雾化聚合物由于所充电的增材材料的气溶胶与所述基材之间的静电势而通过静电力选择性地沉积到电荷改变的基材上。