[发明专利]高空间分辨率磁场检测装置及方法有效
申请号: | 201710017847.4 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN106707202B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 高秀敏;曾祥堉;苗玉;詹秋芳;张荣福 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G01R33/02 | 分类号: | G01R33/02 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根;王晶 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 空间 分辨率 磁场 检测 装置 方法 | ||
1.一种高空间分辨率磁场检测方法,采用高空间分辨率磁场检测装置,该装置包括原子气体室(1)、偏振非均匀分布矢量光束光源(2)、光束偏转扫描器(3)、探测光源(4)、光电探测器(6)、处理分析单元(7),所述原子气体室(1)的底层(102)和顶层(101)设置反射膜,顶层(101)上方设有光电探测器(6),光电探测器(6)连接处理分析单元(7),所述原子气体室(1)一侧外设有偏振非均匀分布矢量光束光源(2)、光束偏转扫描器(3),探测光源(4),其特征在于,其步骤为:1)偏振非均匀分布矢量光束光源(2)出射的偏振非均匀分布矢量光束经过光束偏转扫描器(3)光束传播方向发生改变,从原子气体室(1)侧面入射实现多次反射动态原子蒸气泵浦;2)探测光源(4)出射探测光束从原子气体室(1)侧面入射,在原子气体室(1)的底层(102)和顶层(101)发生多次反射,有部分探测光透射出顶层(101)发生透射形成探测光束阵列(5);3)原子气体室(1)的顶层(101)透射的探测光束阵列(5)经过偏振分光镜阵列的分光后,被光电探测器(6)接收,光电探测器(6)将阵列信号传给信息处理分析单元(7)进行分析;4)光束偏转扫描器(3)实现偏振非均匀分布矢量光束泵浦路线扫描,重复步骤3),信息处理分析单元(7)对数据分析空间差异性的光电分布信息,实现高空间分辨率磁场检测。
2.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述原子气体室(1)采用长方体透明结构,在原子气体室(1)的底层(102)和顶层(103)设置的反射膜对偏振非均匀分布矢量光束光源(2)出射的偏振非均匀分布矢量光束反射率为97%;原子气体室(1)内测的底层(102)设置的反射膜对探测光源出射探测光束的反射率为97%,原子气体室(1)内测的顶层(101)设置的反射膜对探测光源出射探测光束的反射率值为80%-95%之间;在原子气体室(1)内测的侧壁设置有增透膜。
3.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述偏振非均匀分布矢量光源(2)出射光路上设置有光束偏转扫描器(3),光束偏转扫描器(3)为光谱分光镜振镜,对偏振非均匀分布矢量光源(2)出射光束的反射率为99%,对探测光源出射探测光束的透射率为99%。
4.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述的偏振非均匀分布矢量光源(2)为径向偏振圆偏振复合激光光源或方位角偏振圆偏振复合激光光源。
5.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述的光电探测器(6)为二维光电探测器,二维光电探测器为电荷耦合器件或互补金属氧化物半导体电传感器。
6.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述的原子气体室(1)为碱金属原子气体室。
7.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述步骤2)的具体方法为:探测光源(4)出射探测光束从原子气体室(1)侧面入射,在入射在原子气体室(1)侧面之前,光路经过光束偏转扫描器(2)的光谱分光镜振镜的光谱分光镜光学作用面上;在光谱分光镜光学作用面上,偏振非均匀分布矢量光束和探测光束的入射点重叠;探测光束在原子气体室(1)的底层(102)和顶层(101)发生多次反射,每次经过原子气体室(1)的顶层(101)反射时,有部分探测光发生透射。
8.根据权利要求1所述的高空间分辨率磁场检测方法,其特征在于:所述步骤3)的具体方法为:原子气体室(1)的顶层(101)透射的探测光束阵列经过偏振分光镜阵列(5)的分光后,偏振分光镜阵列(5)为等间距设立偏振分光镜,间距与室探测光束在原子气体顶层发生透射的透射点间距一致,每个透射点透射光束被相对应的一片偏振分光镜分光,在偏振分光镜阵列(5)的每个偏振分光镜两侧形成光束;偏振分光后的所有光束被光电探测器(6)接收,光电探测器(6)将阵列信号传给信息处理分析单元(7)进行分析。
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