[发明专利]调控GaAs/AlGaAs二维电子气中Dresselhaus自旋轨道耦合的方法有效
| 申请号: | 201710017041.5 | 申请日: | 2017-01-11 | 
| 公开(公告)号: | CN106783966B | 公开(公告)日: | 2019-07-09 | 
| 发明(设计)人: | 俞金玲;曾晓琳;程树英;陈涌海;赖云锋;郑巧 | 申请(专利权)人: | 福州大学 | 
| 主分类号: | H01L29/15 | 分类号: | H01L29/15;H01L43/12 | 
| 代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊;丘鸿超 | 
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 调控 gaas algaas 二维 电子 dresselhaus 自旋 轨道 耦合 方法 | ||
1.调控GaAs/AlGaAs二维电子气中Dresselhaus自旋轨道耦合的方法,其特征在于:该方法通过改变样品的温度调控GaAs/AlGaAs二维电子气中Dresselhaus自旋轨道耦合,具体包括如下步骤,
S1:用分子束外延设备生长GaAs/AlGaAs半导体二维电子气样品,并沉积铟电极;
S2:调整光路,使1064nm波长的激光入射到GaAs/AlGaAs半导体二维电子气样品上,使激光光斑位于所述样品两个电极中间,且激光入射角为30°;
S3:将所述样品置于杜瓦瓶中,使样品温度由77K至室温300K变化,测量样品随温度变化的Dresselhaus自旋轨道耦合引起的圆偏振光致电流。
2.根据权利要求1所述的调控GaAs/AlGaAs二维电子气中Dresselhaus自旋轨道耦合的方法,其特征在于:所述步骤S1中的条件为:用分子束外延法在(001)面GaAs衬底上生长GaAs/AlGaAs半导体二维电子气样品;样品的生长过程如下,首先在(001)面GaAs衬底上生长10个周期GaAs/Al0.3Ga0.7As超晶格作为缓冲层,再生长大于1μm的GaAs缓冲层,然后生长30nm厚的Al0.3Ga0.7As,进行Si-δ掺杂后再生长50nm厚的Al0.3Ga0.7As,最后生长10nm厚的GaAs。
3.根据权利要求2所述的调控GaAs/AlGaAs二维电子气中Dresselhaus自旋轨道耦合的方法,其特征在于:所述GaAs/AlGaAs二维电子气样品材料为单晶的GaAs/AlGaAs异质结,且在GaAs、AlGaAs二者的界面上形成二维电子气。
4.根据权利要求1所述的调控GaAs/AlGaAs二维电子气中Dresselhaus自旋轨道耦合的方法,其特征在于:所述步骤S3的条件为:将所述样品置于杜瓦瓶中,通过由杜瓦瓶和温控箱组成的控温系统改变样品温度,以改变样品的Dresselhaus自旋轨道耦合引起的圆偏振光致电流。
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