[发明专利]用于抛光的多射流工具及包括该工具的抛光系统

权利要求书

1.一种抛光系统，包括：

抛光液供给部，用于供应抛光液；

用于抛光的多射流工具，用于接收所述抛光液供给部供应的抛光液并将所述抛光液喷出；

工作台，用于承载待抛光工件，使得所述待抛光工件被所述抛光液抛光；以及

数控系统，用于在抛光过程中控制所述多射流工具与所述待抛光工件之间的距离和/或角度，用于控制所述多射流工具与所述待抛光工件之间的距离保持恒定，保持在喷孔直径的5至12倍，每个喷孔的直径小于2mm；

其中所述用于抛光的多射流工具，包括：

转接头，用于输送抛光液；

缓冲腔，与所述转接头固接，用于缓冲经由所述转接头输送的抛光液；以及

喷孔座，与所述缓冲腔的端面紧固连接，并且所述喷孔座中设置有多个所述喷孔，使得所述缓冲腔中的所述抛光液经由所述多个喷孔喷出；

所述抛光系统还包括抛光液回收系统，用于回收抛光液；

其中，所述多个喷孔按照线性阵列分布，或者所述多个喷孔分布为多个同心环形，或者所述多个喷孔根据目标去除函数形状以不等间距分布，或者所述多个喷孔排成一列。

2.根据权利要求1所述的抛光系统，其中，所述喷孔座使用硬质材料形成。

3.根据权利要求1到2中任一项所述的抛光系统，其中，所述喷孔座中分布有所述多个喷孔的区域由硬质材料形成。

4.根据权利要求1到2中任一项所述的抛光系统，其中，所述喷孔座的上表面和下表面中的至少一个为平面、凹面或凸面。

5.根据权利要求1到2中任一项所述的抛光系统，其中，每个所述喷孔为柱形孔或锥形孔。