[发明专利]薄膜封装结构、柔性显示面板、及薄膜封装结构制作方法在审
申请号: | 201710002946.5 | 申请日: | 2017-01-03 |
公开(公告)号: | CN108269827A | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 敖伟;刘金强;周斯然;罗志忠;闵超;刘玉成 | 申请(专利权)人: | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 孙小丁 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜封装结构 无机复合膜 有机发光二极管 柔性显示面板 交替堆叠 软膜层 硬膜层 折射率 存储寿命 柔韧性 低应力 匹配 制作 相交 破裂 覆盖 | ||
1.一种薄膜封装结构(10),其特征在于:所述薄膜封装结构(10)包括无机复合膜层(11),所述无机复合膜层(11)设置于有机发光二极管(30)的上方且用以覆盖所述有机发光二极管(30),所述无机复合膜层(11)为不同折射率的无机软膜层(12)和无机硬膜层(13)交替堆叠设置而成。
2.如权利要求1所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述无机软膜层(12)和所述无机硬膜层(13)各至少一层且交替堆叠设置。
3.如权利要求2所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述无机软膜层(12)和所述无机硬膜层(13)可分别采用氮化硅或氧化硅制成。
4.如权利要求3所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述无机软膜层(12)采用折射率为1.65-1.8的氮化硅、所述无机硬膜层(13)采用折射率为1.8-1.9的氮化硅;或者,所述无机软膜层(12)采用折射率为1.25-1.4的氧化硅、所述无机硬膜层(13)采用折射率为1.4-1.5的氧化硅;或者,所述无机软膜层(12)采用折射率为1.65-1.8的氮化硅、所述无机硬膜层(13)采用折射率为1.4-1.5的氧化硅;或者,所述无机软膜层(12)采用折射率为1.25-1.4的氧化硅、所述无机硬膜层(13)采用折射率为1.8-1.9的氮化硅。
5.如权利要求1或2所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述无机复合膜层(11)由下而上的设置顺序为:先所述无机软膜层(12),再所述无机硬膜层(13),之后所述无机软膜层(12),再所述无机硬膜层(13),依次交替设置;或者,先所述无机硬膜层(13),再所述无机软膜层(12),之后所述无机硬膜层(13),再所述无机软膜层(12),依次交替设置。
6.如权利要求1所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述薄膜封装结构(10)还包括有机膜层(14),所述有机膜层(14)设置于所述无机软膜层(12)和所述无机硬膜层(13)之间或设置于所述无机复合膜层(11)的上方。
7.如权利要求1所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述薄膜封装结构(10)还包括阻隔膜层(15),所述阻隔膜层(15)设置于所述无机复合膜层(11)的上方。
8.如权利要求1所述的薄膜封装结构(10),其特征在于:所述薄膜封装结构(10)还包括有机膜层(14)和阻隔膜层(15),所述阻隔膜层(15)设置于所述无机复合膜层(11)的上方,所述有机膜层(14)设置于所述无机软膜层(12)和所述无机硬膜层(13)之间或设置于所述无机复合膜层(11)与所述阻隔膜层(15)之间。
9.一种柔性显示面板,其特征在于:所述柔性显示面板包括设置于有机发光二极管(30)的上方且用以覆盖所述有机发光二极管(30)的薄膜封装结构(10)。
10.一种薄膜封装结构制作方法,其特征在于:所述制作方法的步骤为:在有机发光二极管(30)上方通过等离子体增强化学气相沉积法分别交替沉积不同折射率的无机软膜层(12)和无机硬膜层(13)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的