[发明专利]一种新型V砧及使用该V砧的锻造方法在审

专利信息
申请号: 201710002051.1 申请日: 2017-01-03
公开(公告)号: CN106825358A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 刘敏;马庆贤 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B21J13/06 分类号: B21J13/06
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 代理人: 张文宝
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 使用 锻造 方法
【权利要求书】:

1.一种新型V砧,为上平下V砧,包括上平砧(1)、下V砧(2)和芯轴(3),对空心钢锭(4)进行芯轴拔长,其特征在于,

下V砧(2)包括大圆角型V砧和凸型V砧;

大圆角型V砧的工作面分别为左斜面(201)、右斜面(202)和过渡圆角面(203);

凸型V砧的工作面分别为左斜面(201)、右斜面(202)、凸型圆角面(204)、左过渡圆角面(205)和右过渡圆角面(206)。

2.根据权利要求1所述的新型V砧,其特征在于,设定θ为大圆角型V砧及凸型V砧左斜面(201)与右斜面(202)之间的夹角即砧角,θ为100-140°;左斜面(201)与竖直方向的夹角、右斜面(202)与竖直方向的夹角相同,均为θ/2。

3.根据权利要求2所述的新型V砧,其特征在于,设定R为过渡圆角面(203)的半径,R0为空心钢锭(4)的外径,R满足0.8≤R/R0≤1.2。

4.根据权利要求2所述的新型V砧,其特征在于,设定Rc为凸型圆角面(204)的半径,R0为空心钢锭(4)的外径,Rc满足0.3≤Rc/R0≤0.5;设定r为左过渡圆角面(205)或右过渡圆角面(206)的半径,W为砧宽,r满足r=0.1W。

5.根据权利要求3所述的V砧,其特征在于,砧角θ为120°,R/R0=1.0。

6.根据权利要求4所述的V砧,其特征在于,砧角θ为120°,Rc/R0=0.4。

7.使用如权利要求1-6任一项所述的新型V砧的锻造方法,其特征在于,主要包括以下步骤,

一、使用上平下V砧对空心钢锭(4)进行芯轴拔长,下V砧(2)采用大圆角型V砧,压下率为10%~25%,砧宽比为0.6-0.9,翻转角度为20-25°;完成10-20次拔长,每次均采用满砧进砧方式;

二、对空心钢锭进行倒棱、滚圆、镦粗处理,镦粗比为1.5-2.5;

三、使用上平下V砧对空心钢锭(4)进行芯轴拔长,下V砧(2)采用凸型V砧,压下率为9%~15%,砧宽比为0.6-0.9,翻转角度为15-20°;完成15-25次拔长,每次均采用满砧进砧方式;

四、进行倒棱、滚圆处理,锻造出成品。

8.根据权利要求7所述的锻造方法,其特征在于,主要包括以下步骤,

一、使用上平下V砧对空心钢锭进行芯轴拔长,下V砧(2)采用大圆角型V砧,压下率为15%,砧宽比为0.75,翻转角度为22.5°;完成16次拔长,每次均采用满砧进砧方式;

二、对空心钢锭进行倒棱、滚圆、镦粗处理,镦粗比为2;

三、使用上平下V砧对空心钢锭进行芯轴拔长,下V砧(2)采用凸型V砧,压下率为11%,砧宽比为0.75,翻转角度为17.14°;完成21次拔长,每次均采用满砧进砧方式;

四、进行倒棱、滚圆处理,锻造出成品。

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