[发明专利]彩膜基板、阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201710001424.3 | 申请日： | 2017-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN106773256A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 王美丽;邱云 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 牛南辉,李峥 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 阵列 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
基板；以及
位于所述基板上的彩色滤光层，
其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述透射光栅包括：
位于所述基板上的介质阵列；以及
位于所述介质阵列的顶表面和侧壁上的金属层。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述介质阵列包括PMMA或氧化硅。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述金属层包括Al、Au或Ag。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述透射光栅包括透射红光的第一光栅、透射绿光的第二光栅和透射蓝光的第三光栅，
其中，所述第一光栅的光栅周期范围为360-436nm；所述第二光栅的光栅周期范围为288-331nm；所述第三光栅的光栅周期范围为262-276nm。
6.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基板；
位于所述基板上的薄膜晶体管；以及
位于所述基板上且沿平行于所述基板表面的方向邻近所述薄膜晶体管设置的彩色滤光层，
其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述透射光栅包括：
位于所述基板上的介质阵列；以及
位于所述介质阵列的顶表面和侧壁上的金属层。
8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述介质阵列包括PMMA或氧化硅。
9.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述金属层包括Al、Au或Ag。
10.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述透射光栅包括透射红光的第一光栅、透射绿光的第二光栅和透射蓝光的第三光栅，
其中，所述第一光栅的光栅周期范围为360-436nm；所述第二光栅的光栅周期范围为288-331nm；所述第三光栅的光栅周期范围为262-276nm。
11.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管与所述透射光栅同层设置。
12.根据权利要求11所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述透射光栅；以及
位于所述钝化层上的透明电极。
13.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管与所述透射光栅非同层设置。
14.根据权利要求13所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述基板，其中，所述透射光栅位于所述钝化层上；
位于所述钝化层上的平坦化层；以及
位于所述平坦化层上的透明电极。
15.一种显示装置，其特征在于，包括：
根据权利要求1至5中任一项所述的彩膜基板或根据权利要求6至14中任一项所述的阵列基板。
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