[发明专利]光刻机照明均匀性校正装置和校正方法有效
| 申请号: | 201710000725.4 | 申请日: | 2017-01-03 |
| 公开(公告)号: | CN107065443B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
| 发明(设计)人: | 程伟林;张方;杨宝喜;黄惠杰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
| 地址: | 201800 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 校正模块 校正 照明光场 柔性薄板 照明均匀性校正装置 挠曲变形 扫描方向 光刻机 扫描方向运动 照明均匀性 对称分布 连续曲线 校正装置 分辨率 照明光 遮挡 | ||
1.一种光刻机照明均匀性校正装置,其特征在于该装置包括基座(41)、上校正模块(42)和下校正模块(43),所述的上校正模块(42)和下校正模块(43)具有相同结构,分别固定于所述的基座(41)的上部与下部,并相对于所述基座(41)的中心平面对称分布;光刻机照明光场(290)垂直于该中心平面,两平面的交点为坐标系原点,垂直于所述光刻机照明光场(290)为光轴方向,即z轴,垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向,即y轴,x轴为光刻机照明系统的非扫描方向;
所述的上校正模块(41)包括上校正模块基板(51)、柔性薄板(54)、上导杆阵列(53)、上导向模块阵列(55)、上驱动源阵列(57)、上驱动源安装支架(52)和上连接板(56);
所述的上导向模块阵列(55)的固定部件与所述的上校正模块基板(51)固定,所述的上驱动源阵列(57)通过所述的上驱动源安装支架(52)固定在所述的上校正模块基板(51)上,所述的上导杆阵列(53)依次沿光刻机照明光场(290)的非扫描方向排布在光刻机照明光场(290)的扫描方向的一侧,所述的上导杆阵列(53)的所有导杆的一端均与所述的柔性薄板(54)的横截面固定,另一端依次与对应位置的上导向模块阵列(55)的水平移动部件的上表面固定,所述的上驱动源阵列(57)通过所述的上连接板(56)依次与对应位置的上导向模块阵列(55)的水平移动部件的下表面连接,为其提供相互独立的动力源用以驱动所述的上导杆阵列(53)沿扫描方向移动,所述的上导杆阵列(53)中每个导杆带动所述柔性薄板(54)横截面上对应固定点沿扫描方向移动,使所述的柔性薄板(54)产生挠曲变形,并沿扫描方向运动进入光刻机照明光场(290)以遮挡部分照明光;
所述的上校正模块(42)中的柔性薄板与所述的下校正模块(43)中的柔性薄板设置在同一平面内。
2.根据权利要求1所述的光刻机照明均匀性校正装置,其特征在于所述的柔性薄板(54)的横截面为槽形、半圆形、或部分椭圆形。
3.根据权利要求1所述的光刻机照明均匀性校正装置,其特征在于所述的上导向模块阵列(55)与所述的下校正模块(43)中的下导向模块阵列具有相同结构,所述的上导向模块阵列(55)的每一个导向模块均为双平行四边形柔性机构,所述的上导向模块阵列(55)的每一个导向模块的结构包括左固定部件、右固定部件、水平移动部件(62)、中间移动部件(67)和四根相互平行且等长的第一连杆(63)、第二连杆(64)、第三连杆(65)、第四连杆(66),所述的第一连杆(63)连接所述的左固定部件和中间移动部件(67)的左端,第二连杆(64)连接所述的水平移动部件(62)的左端和中间移动部件(67)的左中点,第三连杆(65)连接所述的水平移动部件(62)的右端和中间移动部件(67)的右中点,第四连杆(66)连接所述的右固定部件和中间移动部件(67)的右端,所述的上导向模块阵列(55)中的每一个导向模块沿着垂直于所述的水平移动部件(62)的运动方向依次排布,并且每一个导向模块共用同一固定部件(61),所述的第一连杆(63)、第四连杆(66)、中间移动部件(67)和所述的上校正模块基板(51)构成第一平行四边形机构,所述的第二连杆(64)、所述的第三连杆(65)、所述的中间移动部件(67)和水平移动部件(62)构成第二平行四边形机构。
4.根据权利要求1所述的光刻机照明均匀性校正装置,其特征在于所述的上导向模块阵列(55)导向的直线运动数目与所述的上导杆阵列(53)的数量一样。
5.根据权利要求1所述的光刻机照明均匀性校正装置,其特征在于所述的上导杆阵列(53)的数量与所述的上驱动源阵列(57)提供独立动力源的数目一样。
6.利用权利要求1所述的光刻机照明均匀性校正装置进行光刻机照明均匀性校正方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
1)测量光刻机照明系统的照明均匀性分布;
2)判断照明系统的照明均匀性是否满足要求,如果满足要求,则结束该流程,否则转入下一步;
3)根据校正算法计算得到柔性薄板的挠曲变形曲线;
4)根据柔性薄板的挠曲变形曲线计算相应的导杆阵列中的每个导杆在扫描方向的位移;
5)均匀性校正装置控制系统驱动所述的上导杆阵列中的每个导杆运动,使得柔性薄板产生相应的挠曲变形,并返回步骤1)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710000725.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于规则的亚分辨率辅助图形添加方法
- 下一篇:一种制备亲疏图案的光刻方法





