[发明专利]用于相机校准的系统和方法有效
| 申请号: | 201680092128.2 | 申请日: | 2016-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN110381812B | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
| 发明(设计)人: | T·金普;F·图恩;B·迪里克斯;E·德布罗韦;A·克东纳;J·鲁松;P·诺莱特 | 申请(专利权)人: | 巴科股份有限公司 |
| 主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00;A61B1/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 杨洁;蔡悦 |
| 地址: | 比利时*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 相机 校准 系统 方法 | ||
1.一种直接应用于患者皮肤或用于检查患者的中空器官或体腔的内部的经校准的检查单元,所述经校准的检查单元包括光路中的元件的光学阵列,所述光路包括:
至少一个光源,
具有视场的图像捕获设备,
具有限定沿光路的焦点位置的曲率半径和焦距的成像透镜,
参考位置,
用于根据调整值来改变沿光路的聚焦位置的聚焦装置,以及
参考查看表面,所述图像捕获设备通过所述参考查看表面来捕获图像,所述经校准的检查单元进一步包括:
附加三维校准件,所述附加三维校准件包括在所述图像捕获设备的所述视场中相对于所述参考查看表面定位在固定位置并具有在所述附加三维校准件的不同深度方向延伸的平行线的第一校准图案,所述第一校准图案的一部分在所述附加三维校准件的与所述参考查看表面接触的上表面上水平地延伸,所述第一校准图案的其它部分完全嵌入所述附加三维校准件内部,所述其它部分包括位于与所述图像捕获设备的平面形成一角度的平面中的平行线,以及
校准装置,所述校准装置用于定义所述聚焦装置的第一调整值与沿所述光路的所述焦点位置之间的关系,包括使聚焦位置处于所述第一校准图案的固定位置的第二调整值。
2.如权利要求1所述的检查单元,其特征在于,所述至少一个光源以第一波长为中心并且具有第一光谱带宽。
3.如权利要求2所述的经校准的检查单元,其特征在于,进一步包括多个光源,每个光源以不同的波长为中心并具有光谱带宽,并且其中所述聚焦装置的第一调整值以及沿所述光路的所述焦点位置对于每个波长而言都是不同的。
4.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,进一步包括,在所述图像捕获设备的视场中相对于所述参考位置定位在第二固定位置的第二校准图案,以及使第二聚焦位置处于所述第二校准图案的所述第二固定位置的所存储的第三调整值。
5.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,进一步包括,在光学阵列的出射光孔中的前板,并且其中所述第一校准图案被提供在所述前板的两个表面中的至少一者上和/或在所述前板内部。
6.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述第一校准图案作为纹身或印记位于患者皮肤上。
7.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述聚焦装置由所述成像透镜提供,所述成像透镜是液体透镜。
8.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述聚焦装置是通过所述图像捕获设备来提供的,所述图像捕获设备被配置成沿所述光路的光轴平移。
9.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述聚焦装置是通过所述成像透镜来提供的,所述成像透镜被配置成沿所述光路的光轴平移。
10.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述第一调整值和所述第二调整值是驱动电压。
11.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述聚焦装置包括用于计算所述光学阵列的调制传递函数的装置。
12.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述第一校准图案是三维图案,当所述三维图案安装在出射光孔处时,其根据所述参考位置限定多个固定位置,以使得聚焦装置包括使聚焦位置处于所述三维校准图案的所述多个固定位置的多个调整。
13.如权利要求12所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述三维图案被雕刻、蚀刻、铣削在基板内。
14.如权利要求1所述的经校准的检查单元,其特征在于,所述平行线位于与所述图像捕获设备的平面形成一角度的平面中。
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