[发明专利]检查基板的方法和具有指令存储于其上的计算机可读介质

权利要求书

1.一种用于检查基板的方法，所述方法包括：

在真空腔室中提供所述基板，所述基板是大面积基板，其中所述基板具有薄膜，所述薄膜具有沉积在所述基板上的晶粒结构；

用成像带电粒子束显微镜产生一次带电粒子束，其中所述一次带电粒子束撞击在所述真空腔室中的所述基板上；

从在所述一次带电粒子束撞击时从所述基板释放的信号粒子产生一个或多个图像，其中所述一个或多个图像是形貌图像；以及

从所述一个或多个图像计算出所述晶粒结构的晶粒的至少一个特性，所述晶粒结构的晶粒的所述至少一个特性包括基于之前完成的校准的所述晶粒结构的晶粒的晶界的峰高。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述一次带电粒子束撞击在所述基板上时的着陆能量等于或小于2keV。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个图像是用分段检测器产生。

4.如权利要求2所述的方法，其中所述一个或多个图像是用分段检测器产生。

5.如权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个图像是用具有四个分段的四段检测器(Quad detector)产生。

6.如权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个图像以所述一次带电粒子束的等于或小于3°的倾角而产生。

7.如权利要求4所述的方法，其中所述一个或多个图像以所述一次带电粒子束的等于或小于3°的倾角而产生。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述晶粒结构的晶粒的所述至少一个特性被确定为：算术平均值、二次平均值、加权平均值、最小值、最大值、和/或中值中的至少一个。

9.如权利要求1所述的方法，其中所述计算使用分水岭算法(watershed algorithm)。

10.如权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个图像中的两个或更多个图像被组合以形成组合图像，并且利用所述组合图像进行所述计算。

11.如权利要求7所述的方法，其中所述计算利用所述一个或多个图像进行，以形成一个或多个对应计算值，并且其中所述一个或多个对应计算值被组合。

12.如权利要求7所述的方法，进一步包括：

通过所述晶粒结构的晶粒的所述至少一个特性来验证所述薄膜的制造方法的工艺参数。

13.如前述权利要求中任一项所述的方法，进一步包括：

将所述一次带电粒子束倾斜到等于或大于5°的角度；

测量高度轮廓的高度；

将所述一次带电粒子束倾斜回正常操作的角度；

从在所述一次带电粒子束以所述正常操作的角度撞击时从所述基板释放的信号粒子产生一个或多个测试图像，其中所述一个或多个测试图像是形貌图像；以及

使用所述测量到的高度对作为形貌图像的所述一个或多个图像的阴影的长度进行校准。

14.如权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述检查方法是显示器的制造方法的中间工艺。

15.如权利要求1至7中任一项所述的方法，进一步包括：

用另外的成像带电粒子束显微镜产生另外的一次带电粒子束，其中所述另外的一次带电粒子束撞击在所述真空腔室中的所述基板上；以及

从在所述另外的一次带电粒子束撞击时从所述基板释放的另外的信号粒子产生一个或多个另外的图像，其中所述一个或多个另外的图像是形貌图像。

16.如权利要求15所述的方法，其中所述一次带电粒子束和所述另外的一次带电粒子束在撞击在所述基板上的位置处具有5厘米至60厘米的距离。