[发明专利]韦根线布置及其制造方法在审
申请号: | 201680086572.3 | 申请日: | 2016-04-08 |
公开(公告)号: | CN109791056A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 托马斯·泰尔;沃尔特·梅纳特 | 申请(专利权)人: | 托马斯·泰尔;沃尔特·梅纳特 |
主分类号: | G01D5/20 | 分类号: | G01D5/20;H03K17/80 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 德国费*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线圈支架 线圈装置 金属材料 管状结构 容纳 延伸 制造 | ||
1.一种韦根线布置,包括:
-韦根线部分,
-线圈装置,其内部绕组限定线圈内部空间,和
-保持及引导元件,其容纳所述韦根线部分并容纳在所述线圈内部空间中,
其中所述保持及引导元件由非磁性或足够弱磁性的金属制成并管状包围所述韦根线部分。
2.根据权利要求1所述的韦根线布置,其特征在于,在所述保持及引导元件的内壁上形成电绝缘氧化物层。
3.根据权利要求1或2所述的韦根线布置,其特征在于,在所述保持及引导元件的外壁上形成电绝缘氧化物层。
4.根据权利要求1至3中至少一项所述的韦根线布置,其特征在于,用于制造所述保持及引导元件的金属由镍钛合金构成。
5.根据权利要求1至4中至少一项所述的韦根线布置,其特征在于,所述合金由50%镍和50%钛组成。
6.根据权利要求1至5中至少一项所述的韦根线布置,其特征在于,所述保持及引导元件的表面粗糙度小于5μm。
7.根据权利要求1至6中至少一项所述的韦根线布置,其特征在于,所述保持及引导元件连接线圈体部分。
8.根据权利要求7所述的韦根线布置,其特征在于,所述线圈体部分的连接以力配合的方式进行。
9.根据权利要求7所述的韦根线布置,其特征在于,所述线圈体部分的连接以形状配合的方式进行。
10.一种用于制造韦根模块的方法,其中在缠绕步骤的过程中形成线圈体,其最里面的绕组限定其中容纳韦根线部分的线圈内部空间,其中通过将用于形成所述线圈体的绕组线材料缠绕到金属细管上来完成该缠绕步骤,所述细管形成所述韦根模块的组成部分。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在前述方法步骤中,所述金属细管设置有电绝缘氧化物层。
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