[发明专利]处理金属结构的表面的方法有效

专利信息
申请号: 201680086173.7 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN109312485B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 詹雅文;李扬扬;吕坚 申请(专利权)人: 香港城市大学
主分类号: C25C5/02 分类号: C25C5/02
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 陈静;刘依云
地址: 中国香港九龙*** 国省代码: 香港;81
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摘要:
搜索关键词: 处理 金属结构 表面 方法
【权利要求书】:

1.一种处理开孔泡沫金属的表面的方法,所述开孔泡沫金属是多孔的且由第一金属材料制成;所述方法包括以下步骤:

(a)将由所述第一金属材料和第二金属材料制成的合金材料微岛电沉积到所述开孔泡沫金属的带上;以及

(b)从步骤(a)之后获得的结构中电化学去合金化至少一些所述第一金属材料,以获得具有带纳米孔的纳米结构表面的经处理的开孔泡沫金属,其中,所述经处理的开孔泡沫金属与处理前的开孔泡沫金属相比具有增大的比表面积。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,电化电池用于将所述合金材料电沉积到所述开孔泡沫金属上;所述电化电池包括电连接的第一电极、第二电极和电解质;其中,待处理的所述开孔泡沫金属作为所述第一电极被连接;以及所述电解质包括具有所述第一金属材料的离子和所述第二金属材料的离子的溶液。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述电解质溶液还含有酸。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(b)中的所述去合金化是在具有所述第一金属材料的离子、所述第二金属材料的离子和酸的溶液中进行的。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(b)中的所述去合金化是在包含HCl、HNO3、H2SO4或铵的酸性溶液中进行的。

6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤(a)中的所述电沉积是通过将第一电压在第一持续时间内施加到所述开孔泡沫金属来进行的;以及步骤(b)中的所述去合金化是通过将不同于所述第一电压的第二电压在第二持续时间内施加到步骤(a)之后获得的所述结构来进行的。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第一持续时间是1秒至60秒。

8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第二持续时间是1秒至60秒。

9.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第一电压和所述第二电压中的一个是负电压,所述第一电压和所述第二电压中的另一个是正电压。

10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(b)中,当所述第一金属材料被蚀刻掉时,所述第二金属材料中的至少一些或全部与步骤(a)之后获得的所述结构分离。

11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,与步骤(a)之后获得的所述结构分离的所述第二金属材料是颗粒形式。

12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,所述分离的第二金属材料的颗粒具有纳米孔。

13.如权利要求1所述的方法,还包括以下步骤:(c)重复步骤(a)和(b)。

14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,步骤(a)和(b)被重复20至160次。

15.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在处理环境中,所述第一金属材料比所述第二金属材料化学反应性更强。

16.如权利要求15所述的方法,其特征在于,所述第一金属材料是铝基材料、铜基材料、锌基材料或银基材料;以及所述第二金属材料是镍基材料、铂或金。

17.如权利要求1-16中任意一项所述的方法,还包括以下步骤:

在所述经处理的开孔泡沫金属的表面上产生、结合或涂覆金属或金属氧化物材料。

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