[发明专利]质谱分析装置

权利要求书

1.一种质谱分析装置，具备向试样照射激光来将存在于该激光的激光照射区域的试样中的物质进行离子化的离子源，对用该离子源生成的离子或源自该生成的离子的离子进行质谱分析，所述质谱分析装置的特征在于，具备：

a)激光光源部，其射出激光；

b)激光整形部，其将从所述激光光源部射出的激光整形成该激光的光束的截面形状仅为一种且能够实现平面镶嵌的规定的图形形状；

c)位置控制部，其以使激光照射位置在所述试样上移动的方式控制该试样与照射激光的相对位置关系，以在该激光的光束的截面形状被整形成所述规定的图形形状之后照射到所述试样上时通过该激光的照射区域实现平面镶嵌的方式控制该试样与照射激光的相对位置关系；以及

d)尺寸变更部，该尺寸变更部变更向所述试样照射的激光的大小，

其中，在由所述尺寸变更部变更了向试样照射的激光的大小使得该大小增大时，利用所述激光整形部将该激光的截面形状整形成矩形。

2.根据权利要求1所述的质谱分析装置，其特征在于，

所述激光整形部包括孔构件，该孔构件设置在从所述激光光源部射出的激光的光轴上且形成有规定形状的开口。

3.根据权利要求1所述的质谱分析装置，其特征在于，

还具备数据处理部，该数据处理部基于通过对一边利用所述位置控制部控制试样与照射激光的相对位置关系一边向该试样照射激光所得到的离子进行质谱分析所得到的质谱分析结果，来制作针对试样上的规定的一维或二维的分析对象区域的质谱分析结果的图表或者质谱分析成像图像。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的质谱分析装置，其特征在于，

所述离子源是基于基质辅助激光解吸离子化法或激光解吸离子化法的离子源。