[发明专利]绝缘结构制造方法、绝缘结构及旋转电机

权利要求书

1.一种绝缘结构制造方法，其特征在于，其是将绝缘对象物的外表面覆盖的绝缘结构的制造方法，其具有以下步骤：

将主绝缘带卷绕于所述绝缘对象物的外侧的绕带步骤；

在所述绕带步骤后，向卷绕的所述主绝缘带的外表面喷射纳米粒子的喷射步骤；

在所述喷射步骤后，将绕带后的所述绝缘对象物抽真空的抽真空步骤；和

在所述抽真空步骤之后，在所述绝缘对象物中压入含浸用高分子聚合物并使该含浸用高分子聚合物含浸于所述绝缘对象物并使没有崩解的微囊崩解的含浸步骤，

所述喷射步骤在将所述纳米粒子收纳于所述微囊中的状态下喷射所述微囊，所述微囊能够收纳所述纳米粒子并到所述含浸步骤为止将所述纳米粒子释放。

2.根据权利要求1所述的绝缘结构制造方法，其特征在于，所述绝缘对象物为旋转电机的定子绕组的层叠导体，

在所述绕带步骤之后且所述抽真空步骤之前，进一步具有将所述绕带后的层叠导体插入定子中而装配成绕线插入一体物的装配步骤，

所述抽真空步骤通过将所述绕线插入一体物进行抽真空，从而将所述绕带后的所述绝缘对象物进行抽真空。

3.根据权利要求1所述的绝缘结构制造方法，其特征在于，所述绕带步骤通过每圈错开所述主绝缘带的宽度的一半的半重叠方式将所述主绝缘带卷绕。

4.根据权利要求1所述的绝缘结构制造方法，其特征在于，所述纳米粒子使用二氧化硅、氧化铝、氧化镁以及氮化硼中的至少一种。

5.根据权利要求1或权利要求4所述的绝缘结构制造方法，其特征在于，在通过所述含浸步骤压入的含浸用高分子聚合物中混匀有纳米粒子。