[发明专利]具有改进的耐磨边性的功能化层压光学元件

权利要求书

1.一种功能化层压光学元件，其包含：

-光学基础元件；

-由单层或多层结构组成的功能膜结构；

-具有光学品质的压敏粘合剂层，其被置于所述光学基础元件的一个表面与所述功能膜结构之间，以便将所述功能膜结构永久地保持在所述光学基础元件的所述表面上，

其中所述压敏粘合剂层由基于聚丙烯酸酯的组合物制成，所述组合物包含：

-丙烯酸类聚合物(A)；

-充当增粘剂的(甲基)丙烯酸类聚合物(B)，其包括具有三环或更高级脂环结构且具有1000或更大并且小于30000的重均分子量的(甲基)丙烯酸类单体充当单体单元，以及

-充当硅烷偶联剂的含烷氧基甲硅烷基的单体(C)；以及

所述压敏粘合剂层具有在85℃下低于1.6 10⁵Pa的储能模量G’，并且展现出均超过20N/25mm的干剥离强度和湿剥离力强度并且其中所述光学基础元件选自成品镜片、半成品镜片、渐变多焦点镜片、无焦点镜片、平面镜片、单焦点镜片和多焦点镜片的组。

2.如权利要求1所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层展现出小于或等于10％含端值的在干剥离力强度与湿剥离力强度之间的降低。

3.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层具有在10μm至150μm含端值范围内的厚度。

4.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物(A)，所述(甲基)丙烯酸类聚合物(B)以1至20重量份范围内的量使用。

5.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中含烷氧基甲硅烷基的单体(C)选自γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷或N-苯基-氨基丙基三甲氧基硅烷。

6.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述光学基础元件是由基于(硫代)氨基甲酸酯的预聚物或环硫化物单体制成的光学基础元件。

7.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中，所述功能膜结构包括选自由着色膜、偏振膜、光致变色膜、硬质涂层膜、顶涂层膜、防雾膜、抗污膜、减反射膜和抗静电膜组成的组的一个或多个功能膜。

8.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述功能膜结构包含至少一个支持膜。

9.如权利要求8所述的功能化层压光学元件，其中所述支持膜选自由三乙酸纤维素(TAC)、乙酸丁酸纤维素(CAB)、聚碳酸酯(PC)、聚(对苯二甲酸乙二醇酯)(PET)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、氨基甲酸酯聚合物(TPU)、环烯烃共聚物(COC)、聚酯共聚嵌段酰胺和聚酰亚胺制成的膜的组。

10.如权利要求9所述的功能化层压光学元件，其中所述支持膜是由三乙酸纤维素(TAC)制成的膜，其具有至少40μm的厚度。

11.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层具有在85℃下低于或等于1.5 10⁵Pa的储能模量G’。

12.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层展现出均在21至40N/25mm含端值的范围内的干剥离强度和湿剥离力强度。

13.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层具有在20至75μm含端值范围内的厚度。

14.如权利要求5所述的功能化层压光学元件，其中基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物(A)，所述单体(C)以0.1至1.0重量份范围内的量使用。