[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜用掩膜构件及蒸镀掩膜的制造方法

说明书

提供可以完全除去开口部内的树脂膜的蒸镀掩膜、其制造方法及蒸镀掩膜用掩膜构件。在树脂膜(11)的一侧配置用于形成开口部(11a)图案的激光的照射源，在树脂膜(11)的另一侧设置反射从激光的照射源照射的激光的波长的光的反射膜(30)，通过反射膜(30)反射的激光被利用于树脂膜(11)的开口部(11a)的图案形成。

技术领域

本发明是关于在蒸镀有机EL显示装置的有机层之际等使用的蒸镀掩膜、蒸镀掩膜用掩膜构件、及蒸镀掩膜的制造方法及有机EL显示装置的制造方法。更详细说来，通过激光形成开口部的图案之际可以不产生毛边的构造的蒸镀掩膜、蒸镀掩膜用掩膜构件、及蒸镀掩膜的制造方法与使用其蒸镀掩膜的有机EL显示装置的制造方法。

背景技术

制造有机EL显示装置时，例如形成TFT等的开关元件的装置基板上有机层对应每一像素层叠。因此，装置基板上配置蒸镀掩膜，经由其蒸镀掩膜蒸镀有机材料，只在必要的像素上层叠必要的有机层。作为其蒸镀掩膜，使用公知的金属掩膜，但近年来，为了形成更精细的开口部图案，倾向于取代金属掩膜使用由树脂膜与金属支承层形成的复合掩膜。

另一方面，即使在近年来的大型化的情况下，也要求满足高精细化和轻量化双方，例如图10所示，树脂层81中形成金属支承层82，其周围固定框体83的状态下，经由保护层84固定至加工台85上，通过从图的上侧照射激光，如图10所示，在树脂层81中形成开口部81a的图案。保护层84是使用不以激光加工的树脂层或乙醇等的液体层(参照专利文献1、2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第2014-133938号公报

专利文献2:日本专利第2014-135246号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

如上所述，在树脂层81中形成激光产生的开口部81a的图案的蒸镀掩膜中，即使树脂层、乙醇等的液体层作为保护层84介于树脂膜的背面侧，开口部81a的周围或格子状残留的树脂膜的面上毛边81b飞散附着，或周围残存的树脂膜的微片往下侧垂下等，反而具有难以升华残留成为毛边的问题。\

例如用于形成有机EL显示装置的蒸镀掩膜的情况下，根据近年来的图像精细化的要求，1像素(开口部)的尺寸一边30μm(微米)(400PPI)左右，即使少许微片重叠开口部，导致像素的面积大幅减少，成为显示成色下降的原因。因此，优选几乎不发生毛边。

此外，蒸镀之际，因为从坩锅等的蒸镀源经由蒸镀掩膜在被蒸镀基板上蒸镀蒸镀材料，蒸镀源与蒸镀掩膜以近距离对置，来自蒸镀源的热作为辐射热传导至蒸镀掩膜的树脂膜，蒸镀掩膜的温度容易上升。蒸镀掩膜的温度一上升，开口部的大小就变大，预定的像素区域以外的部分也沉淀有机材料，成为相同的显示成色下降的原因。

本发明是用以解决上述的问题而做出，其目的在于提供完全除去开口部内的树脂膜的蒸镀掩膜、其制造方法及蒸镀掩膜用掩膜构件，其不会在根据树脂膜的开口部决定蒸镀掩膜的开口部的蒸镀掩膜的开口部内树脂膜的微片作为毛边附着，也不会在树脂膜的开口部的底面侧残存树脂膜的一部分等，。

本发明的其他目的为在利用除去蒸镀掩膜的毛边或异物而进行蒸镀之际，尽量放出蒸镀掩膜的热，提供可以带来防止蒸镀掩膜的温度上升的副次效果的蒸镀掩膜。

本发明的又一其他目的为在使用根据上述制造方法形成的蒸镀掩膜，提供显示成色优异的有机EL显示装置的制造方法。

解决问题的手段

本发明的蒸镀掩膜的制造方法是具有形成开口部图案的树脂膜的蒸镀掩膜的制造方法，特征在于所述树脂膜的一侧，配置用于形成所述开口部图案的激光的照射源，所述树脂膜的另一侧，设置反射从所述激光的照射源照射的激光的波长的光的反射膜，以所述反射膜反射的激光，利用于所述树脂膜的开口部的图案形成。