[发明专利]表面被覆立方氮化硼烧结体以及包括该烧结体的切削工具有效
申请号: | 201680082970.8 | 申请日: | 2016-12-02 |
公开(公告)号: | CN108778583B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 高滨和嗣;濑户山诚;冈村克己 | 申请(专利权)人: | 住友电工硬质合金株式会社 |
主分类号: | B23B27/14 | 分类号: | B23B27/14;B22F3/24;C22C29/16 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张苏娜;樊晓焕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 被覆 立方 氮化 烧结 以及 包括 切削 工具 | ||
1.一种表面被覆立方氮化硼烧结体,包括:
具有前刀面和后刀面的立方氮化硼烧结体;
覆盖所述立方氮化硼烧结体的表面的覆膜,其中
所述立方氮化硼烧结体包含立方氮化硼颗粒和结合剂,
所述立方氮化硼烧结体中的所述立方氮化硼颗粒的比例为大于或等于85体积%且小于或等于98体积%,
所述结合剂包含第一化合物,该第一化合物含有Al和Cr中的至少一种元素以及选自由N、B和O组成的组中的至少一种元素,
所述覆膜包括与所述立方氮化硼烧结体接触的A层,
所述A层由Alx1Cry1Mz1Ca1Nb1Oc1构成,条件是M为Ti、V、Nb和Si中的一种以上,并且满足0.25≤x1≤0.75、0.25≤y1≤0.75、0≤z1≤0.5、x1+y1+z1=1、0≤a1≤0.5、0.5≤b1≤1、0≤c1≤0.1和a1+b1+c1=1。
2.根据权利要求1所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中
在所述表面被覆立方氮化硼烧结体的截面中,当观察夹在第一虚拟直线段和第二虚拟直线段之间的区域时,
在所述区域中存在空隙,并且所述区域中的所述空隙的比例为0.1面积%以上5面积%以下,
其中所述第一虚拟直线段位于所述立方氮化硼烧结体的一个表面与所述覆膜彼此接触的界面处,并且所述第一虚拟直线段的长度为500μm,所述第二虚拟直线段是通过使所述第一虚拟直线段朝向所述立方氮化硼烧结体的内部平行移动10μm而获得的。
3.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中
所述立方氮化硼烧结体中的所述立方氮化硼颗粒的比例为90体积%以上98体积%以下。
4.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中,
所述结合剂包含第二化合物,该第二化合物含有W和Co中的至少一种元素以及选自由N、B和O组成的组中的至少一种元素。
5.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中
所述结合剂中的所述第一化合物的比例为0.5质量%以上100质量%以下。
6.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中
所述第一化合物为选自由AlCrN、AlN和CrN组成的组中的至少一种。
7.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中
所述覆膜的最外表面的表面粗糙度Ra为0.005μm以上0.2μm以下。
8.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中
所述覆膜还包括B层,并且
所述B层由Tix2Aly2Mz2N构成,条件是M为V和Si中的一种以上,并且满足0.25≤x2≤0.65,0.35≤y2≤0.75,0≤z2≤0.2和x2+y2+z2=1。
9.根据权利要求1或2所述的表面被覆立方氮化硼烧结体,其中,
所述覆膜还包括C层,并且
所述C层由Tix3My3Ca3Nb3构成,条件是M为Cr、Nb和W中的一种以上,并且满足0.3≤x3≤1,0≤y3≤0.7,x3+y3=1,0≤a3≤1,0≤b3≤1和a3+b3=1。
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