[发明专利]用于颗粒的光学检测系统

权利要求书

1.一种用于颗粒的检测系统，包括：

通道；

光源，所述光源被配置为产生光；

一个或多个光学元件，所述一个或多个光学元件被配置为将所述光的光束聚焦在所述通道内的照射区域上；

掩模，所述掩模可操作地设置在所述光源和所述通道之间的光路中，其中所述掩模被配置为阻挡所述光束的一部分，从而产生阴影区域；

第一检测器，所述第一检测器被配置为通过与穿过所述照射区域的颗粒的相互作用来检测从所述光束偏转到所述阴影区域中的光；

第二检测器，所述第二检测器被配置为检测由所述照射区域中的所述光束引起的光致发光；以及

第一光学狭缝，可操作地设置在所述照射区域和所述检测器之间，其中所述第一光学狭缝的尺寸和位置设置成防止所述光束的未偏转光撞击所述检测器的光敏区域；并且

其中所述一个或多个光学元件提供物镜，所述物镜收集来自所述照射区域的发射光以便传播到所述第二检测器，并且

其中相同的光源产生由所述照射区域处的颗粒偏转并由所述第一检测器检测的光、以及在所述照射区域中引起光致发光以便由所述第二检测器检测的激发光。

2.如权利要求1所述的检测系统，其中所述照射区域位于所述掩模和所述第一检测器之间的光路中。

3.如权利要求1所述的检测系统，其中所述光源包括发光二极管或激光二极管。

4.如权利要求1所述的检测系统，其中所述掩模为线掩模。

5.如权利要求1所述的检测系统，其中所述掩模与所述光束的经准直区域相交。

6.如权利要求1所述的检测系统，还包括第二光学狭缝，所述第二光学狭缝可操作地设置在所述光源和所述通道之间的光路中、在所述掩模的光学上游的位置处。

7.如权利要求6所述的检测系统，其中所述掩模是线掩模，包括平行于所述第二光学狭缝而伸长的遮挡区域。

8.如权利要求7所述的检测系统，其中所述遮挡区域正交于通过所述照射区域的所述通道中的流动方向而伸长。

9.如权利要求1所述的检测系统，其中所述颗粒选自由液滴、固相颗粒和生物细胞构成的组。

10.如权利要求9所述的检测系统，其中所述颗粒是设置在不混溶的载液中的液滴。

11.如权利要求1所述的检测系统，其中所述第一检测器被配置为检测所述掩模的像平面附近的光。

12.如权利要求1所述的检测系统，其中由所述颗粒从所述光束偏转到所述阴影区域中的所述光不与所述通道和所述第一检测器之间的光学元件相互作用。

13.如权利要求1所述的检测系统，还包括至少一个正/负压源，所述至少一个正/负压源可操作地连接到所述通道并且配置成产生驱动流体流过所述通道的压力差。

14.如权利要求1所述的检测系统，还包括设置成与所述通道流体连通的载液源。

15.如权利要求14所述的检测系统，其中所述载液源包含感兴趣的颗粒，还包括与所述通道流体连通的稀释流体的源，并配置成利用所述稀释流体稀释包含感兴趣的颗粒的载液从而在所述照射区域的流体学上游的位置处增加所述通道中的颗粒之间的距离。

16.如权利要求14所述的检测系统，还包括至少一个正/负压源，所述至少一个正/负压源可操作地连接到所述载液源并且配置成产生驱动所述载液流过所述通道的压力差。