[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其特征在于，具备：

第1以及第2基板载置部(3A，3B)，分别载置基板(10)，并具有对载置的基板进行吸附的吸附机构(31)以及对载置的基板进行加热的加热机构(32)；

成膜处理执行部(1)，对载置于成膜处理区域(R1)内的基板载置部的基板执行成膜薄膜的成膜处理；以及

基板载置部移载装置(8L、8R)，执行使所述第1以及第2基板载置部移动并以成膜时移动速度依次穿过所述成膜处理区域内的搬运动作，

所述搬运动作包括巡回搬运处理，该巡回搬运处理将所述第1以及第2基板载置部中的、作为所载置的基板全部穿过了所述成膜处理区域的基板载置部的一方基板载置部，以巡回速度向另一方基板载置部的后方巡回配置；

所述巡回速度的平均值比所述成膜时移动速度更高速；

所述第1以及第2基板载置部分别搭载规定数的基板，所述规定数以如下方式设定，即直至载置于所述另一方基板载置部的全部基板穿过所述成膜处理区域为止，所述巡回搬运处理结束；

所述基板载置部移载装置仅包含第1以及第2移载机构，所述第1移载机构被设置为用于所述第1基板载置部，所述第2移载机构被设置为用于所述第2基板载置部，仅对所述第1基板载置部以及所述第2基板载置部执行所述搬运动作；

并且，通过组合横行动作和升降动作来执行所述巡回搬运处理。

2.如权利要求1所述的成膜装置，其中，

载置于所述第1以及第2基板载置部的基板为硅基板。

3.如权利要求1或2所述的成膜装置，其中，

所述成膜处理执行部包括雾喷射部，该雾喷射部向大气中喷射将原料溶液雾化而得到的原料雾(MT)来执行所述成膜处理，

所述成膜处理区域为所述原料雾的喷射区域。

4.如权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述雾喷射部具有形成喷射所述原料雾的雾喷出口的喷射面(1S)，

所述喷射面与载置于所述第1以及所述第2基板载置部的基板之间的在所述喷射区域内的距离即雾喷射距离(D1)，被设定为1mm以上且30mm以下。