[发明专利]显微分析装置有效
申请号: | 201680082232.3 | 申请日: | 2016-09-20 |
公开(公告)号: | CN108700730B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 奥山修平 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08;G01N21/27;G02B17/06;G02B21/00 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本国京都府京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显微 分析 装置 | ||
1.一种显微分析装置,其特征在于,具备:
a)聚光光学系统,其使从测定区域的试样发出的测定光聚光到第1聚光点;
b)光阑板,其具有位于所述第1聚光点的开口;
c)椭圆凹面镜,其使通过了所述开口的测定光反射而聚光到第2聚光点;
d)遮蔽板,其配置于所述第2聚光点之前,且形成有以下贯通孔:该贯通孔的截面为圆形;以及
e)光检测器,其设置于所述第2聚光点,
所述遮蔽板以如下方式配置:通过从所述试样发出并由所述聚光光学系统聚光的光的中心线规定该测定光的光轴,在包含入射到所述椭圆凹面镜的所述测定光的光轴和由该椭圆凹面镜反射后的该测定光的光轴的面内,规定由该椭圆凹面镜反射后的测定光中、在该光轴的一侧最远离该光轴的位置处由该椭圆凹面镜反射的光的行进方向与该光轴所成的角度为θa,在该光轴的另一侧最远离该光轴的位置处由该椭圆凹面镜反射的光的行进方向与该光轴所成的角度为θb,则所述贯通孔的中心轴相对于所述光轴按角度|θb-θa|/2倾斜。
2.根据权利要求1所述的显微分析装置,其特征在于,
所述测定光是红外光。
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