[发明专利]于立式烧结坩埚中制备石英玻璃体

权利要求书

1.一种制备石英玻璃体的方法，其包含以下方法步骤：

i)提供二氧化硅颗粒，其中所述二氧化硅颗粒从热解二氧化硅制备，其中所述二氧化硅颗粒具有以下特征：

A)BET表面积在20至50m²/g范围内，及

B)平均粒度在50至500μm范围内；

ii)在烘箱中从所述二氧化硅颗粒制造玻璃熔体；

iii)从所述玻璃熔体制造石英玻璃体；

其中所述烘箱包含立式烧结坩埚。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述烧结坩埚是由烧结材料制成，所述烧结材料包含选自由钼、钨及其组合组成的群组的烧结金属。

3.根据前述权利要求所述的方法，其中所述烧结坩埚的所述烧结金属的密度为所述烧结金属的理论密度的85％或更高。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中在步骤ii.)之前，所述BET表面积未减小至小于5m²/g。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述立式烧结坩埚具有以下特征中的至少一种：

(a)被形成为竖立表面的区域；

(b)至少两个密封环作为侧部件；

(c)喷嘴；

(d)芯模；

(e)至少一个气体入口；

(f)至少一个气体出口；

(g)盖。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中熔融能量通过固体表面转移至所述二氧化硅颗粒。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中氢气、氦气、氮气或其中两种或多于两种气体的组合存在于所述烘箱的气体空间中。

8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中提供所述二氧化硅颗粒包含以下方法步骤：

I提供二氧化硅粉末，其中所述二氧化硅粉末具有以下特征：

a.BET表面积在20至60m²/g范围内，及

b.容积密度为0.01至0.3g/cm³；

II将所述二氧化硅粉末加工成二氧化硅颗粒，其中所述二氧化硅颗粒的粒径大于所述二氧化硅粉末。

9.根据权利要求8所述的方法，其中步骤I.中的所述二氧化硅粉末具有以下特征中的至少一种：

c.碳含量小于50ppm；

d.氯含量小于200ppm；

e.铝含量小于200ppb；

f.不同于铝的金属的总含量小于1ppm；

g.至少70重量％的所述粉末粒子具有10至100nm范围内的初始粒度；

h.夯实密度为0.001至0.3g/cm³；

i.残余水分含量小于5重量％；

j.粒度分布D₁₀在1至7μm范围内；

k.粒度分布D₅₀在6至15μm范围内；

l.粒度分布D₉₀在10至40μm范围内；

其中重量％、ppm及ppb各自以所述二氧化硅粉末的总质量计。

10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述二氧化硅粉末可由选自包含硅氧烷、氧化硅及硅卤化物的群组的化合物来制备。