[发明专利]量测方法、目标和衬底

权利要求书

1.一种量测方法，包括：

利用具有第一偏振的第一辐射束照射量测目标的至少第一周期结构；

利用具有不同的第二偏振的第二辐射束照射所述量测目标的至少第二周期结构；

将从所述第一周期结构衍射的辐射与从所述第二周期结构衍射的辐射进行组合，以引起干涉；

使用检测器来检测所组合的辐射；以及

根据使用经检测的所组合的辐射确定的强度差异或强度比率的值来确定感兴趣的参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二偏振基本正交于所述第一偏振。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射束和所述第二辐射束彼此相干。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括：使用分束器来将进入的束分裂为具有所述第一偏振的所述第一辐射束和具有所述第二偏振的所述第二辐射束。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述目标上的所述第一辐射束的斑点的中心与所述目标上的所述第二辐射束的斑点的中心横向偏移。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第二周期结构的至少一部分不覆盖所述第一周期结构的至少一部分，并且所述第一辐射束的斑点的中心入射到所述第一周期结构的至少一部分上，而所述第二辐射束的斑点的中心不入射到所述第一周期结构的至少一部分上。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述目标上的所述第一辐射束的入射角不同于所述目标上的所述第二辐射束的入射角。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，还包括：改变所述第一辐射束和所述第二辐射束之间的强度比。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，还包括：改变所述第一辐射束和所述第二辐射束之间的相位。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，还包括：在检测之前，使所组合的辐射通过偏光器或减速器。

11.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中包括确定所述感兴趣的参数包括：根据所组合的辐射确定所述目标的感兴趣的参数，并且根据所组合的辐射确定针对所述第一周期结构和/或所述第二周期结构的感兴趣的参数。

12.一种量测装置，包括：

光学元件，被配置为在具有多个周期结构的量测目标上提供具有第一偏振的第一辐射束和具有第二偏振的第二辐射束；

检测器，被配置为检测来自被所述周期结构衍射的所述第一辐射束和所述第二辐射束的辐射，其中来自所述周期结构的衍射辐射被组合并且干涉；以及

控制系统，被配置为根据使用经检测的组合的衍射辐射确定的强度差异或强度比率的值来确定感兴趣的参数。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述第二偏振基本正交于所述第一偏振。

14.根据权利要求12所述的装置，其中所述第一辐射束和所述第二辐射束彼此相干。

15.根据权利要求12至14中任一项所述的装置，其中所述光学元件包括分束器，所述分束器被配置为将进入的束分裂为具有所述第一偏振的所述第一辐射束和具有所述第二偏振的所述第二辐射束。

16.根据权利要求12至14中任一项所述的装置，其中所述目标上的所述第一辐射束的斑点的中心与所述目标上的所述第二辐射束的斑点的中心横向偏移。