[发明专利]调节性人工晶状体装置

权利要求书

1.一种调节性人工晶状体装置，包括：

低轮廓基座组件，所述基座组件包括第一开口端、耦合到基座晶状体并且相对于所述第一开口端定位在后面的第二端以及围绕中心腔体的触觉件，其中所述触觉件包括外周边、内表面以及第一边缘和第二边缘之间的高度，所述第一边缘在所述第二边缘前面；和

屈光力晶状体，所述屈光力晶状体被配置为配合在所述中心腔体内，所述屈光力晶状体包括第一侧、第二侧、耦合所述第一侧和所述第二侧的周边边缘以及被配置为容纳流体的封闭腔体，其中所述第二侧被配置成通过所述中心腔体的一部分与所述基座晶状体间隔开，所述周边边缘被配置成接触所述触觉件的所述内表面，并且所述封闭腔体与所述第一侧和第二侧间隔开，所述第一侧在所述第二侧前面；

其中所述屈光力晶状体的所述第一侧定位在所述触觉件的所述第一边缘的后面并且与所述触觉件的所述第一边缘相距所述触觉件的所述高度的38％至75％从而使得施加到所述触觉件的所述外周边的径向力集中在所述屈光力晶状体的所述第一侧上以引起所述第一侧的曲率变化。

2.根据权利要求1所述的调节性人工晶状体装置，其中所述第一侧的所述曲率变化引起容纳在所述封闭腔体中的流体在所述第一侧的方向上拉动所述第二侧。

3.根据权利要求1所述的调节性人工晶状体装置，其中所述屈光力晶状体的所述第一侧定位成距所述触觉件的所述第一边缘约0.75mm至约1.5mm。

4.根据权利要求1所述的调节性人工晶状体装置，其中施加到所述触觉件的所述外周边的所述径向力以比所述基座晶状体更大的比例传递到所述屈光力晶状体。

5.根据权利要求1所述的调节性人工晶状体装置，其中所述内表面面向所述中心腔体并且包括多个间隔开的接触点，所述多个间隔开的接触点被配置为接合所述屈光力晶状体的所述周边边缘的一部分。

6.根据权利要求5所述的调节性人工晶状体装置，进一步包括沿所述触觉件的所述高度的至少一部分延伸的外凹槽，所述外凹槽被配置为允许所述触觉件被径向压缩、径向扩张或两者兼有。

7.根据权利要求6所述的调节性人工晶状体装置，其中所述外凹槽与所述内表面接触点相对地设置在所述外周边中。

8.根据前述权利要求中任一项所述的调节性人工晶状体装置，其中所述触觉件进一步包括径向向内延伸到所述腔体中的多个突片，并且其中所述屈光力晶状体通过所述多个突片固定到所述基座组件。

9.根据权利要求8所述的调节性人工晶状体装置，其中所述触觉件进一步包括多个台，所述多个台相对于所述多个突片定位在后面并且径向向内延伸到所述腔体中，并且其中在所述多个突片和所述多个台之间形成通道，以将所述屈光力晶状体固定到所述基座组件。

10.根据权利要求8所述的调节性人工晶状体装置，其中所述多个突片包括三个突片。

11.根据权利要求8所述的调节性人工晶状体装置，其中所述多个突片的后表面定位在距所述触觉件的所述第一边缘约0.75mm至约1mm的距离处。

12.根据权利要求8所述的调节性人工晶状体装置，其中所述多个突片的后表面定位在距所述触觉件的所述第一边缘约38％至约75％的所述触觉件的所述高度的距离处。

13.根据权利要求1所述的调节性人工晶状体装置，进一步包括将所述基座晶状体耦合到所述触觉件的多个臂。

14.根据权利要求13所述的调节性人工晶状体装置，其中所述臂使所述基座晶状体远离所述中心腔体拱起。