[发明专利]负型平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法在审

专利信息
申请号: 201680079072.7 申请日: 2016-11-18
公开(公告)号: CN108475017A 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 安原祐一;野崎敦靖 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/028;G03F7/029
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹阳
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 平版印刷版原版 负型 平版印刷版 图像记录层 制作 芳香族烃环基 高分子化合物 烯属不饱和键 聚合引发剂 亲水性表面 非曝光部 曝光工序 图像曝光 显影工序 显影液 支撑体 显影 主链 去除 曝光
【说明书】:

本发明提供一种负型平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法。本发明的负型平版印刷版原版在具有亲水性表面的支撑体上具有图像记录层,所述图像记录层含有:高分子化合物,在主链上具有由式1所表示的结构,且具有烯属不饱和键;及聚合引发剂。并且,平版印刷版的制作方法依次包括:曝光工序,对上述负型平版印刷版原版进行图像曝光;及显影工序,使用显影液去除所曝光的所述负型平版印刷版原版的非曝光部并进行显影。式1中,R1表示(x+2)价的芳香族烃环基,x表示1~4的整数。

技术领域

本公开涉及一种负型平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法。

背景技术

迫切期望根据经数字化的图像信息来扫描如激光等定向性较高的光,并制造直接印刷版的计算机直接制版(CTP)技术。作为这种能够进行扫描曝光的平版印刷版原版,已知有如下平版印刷版原版:在亲水性支撑体上设有含有光聚合引发剂、能够进行加成聚合的烯属不饱和化合物及可溶于显影液的粘合剂聚合物的光聚合型图像记录层(也称为感光层。),这种平版印刷版原版具有生产率优异,且进一步使显影处理简化之类的优点。

并且,作为感光性组合物,已知有专利文献1~3中所记载的感光性组合物。

以往技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-233363号公报

专利文献2:日本特开2001-133975号公报

专利文献3:日本专利公表2009-505157号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明的实施方式所要解决的课题在于,提供一种所获得的平版印刷版的印刷耐久性、耐化学性及印刷污染的残留防止性优异的负型平版印刷版原版、以及使用了上述负型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法。

用于解决技术课题的手段

上述课题通过以下<1>或<15>所述的手段解决。以下,与作为优选实施方式的<2>~<14>一同进行记载。

<1>一种负型平版印刷版原版,其在具有亲水性表面的支撑体上具有图像记录层,所述图像记录层含有:高分子化合物,在主链具有由式1表示的结构,且具有烯属不饱和键;及聚合引发剂,

[化学式1]

式1中,R1表示(x+2)价的芳香族烃环基,x表示1~4的整数。

<2>根据<1>所述的负型平版印刷版原版,其中,上述高分子化合物在主链上具有由下述式2所表示的结构,

[化学式2]

式2中,R2分别独立地表示烷基或芳基,x表示1~4的整数,y表示0~3的整数。

<3>根据<1>或<2>所述的负型平版印刷版原版,其中,所述高分子化合物具有由下述式3所表示的结构,

[化学式3]

式3中,R2分别独立地表示烷基或芳基,y表示0~3的整数。

<4>根据<1>所述的负型平版印刷版原版,其中,上述式1中的酰胺键并不是脲键的一部分,

<5>根据<1>至<4>中任一项所述的负型平版印刷版原版,其中,所述高分子化合物为具有由下述式4所表示的构成重复单元的树脂,

[化学式4]

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680079072.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top