[发明专利]具有针对氢输运的阻挡层的EUV元件在审
| 申请号： | 201680078648.8 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN108463747A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | K·R·乌姆斯塔德特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G01J3/10;G02B5/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 非氢气 系统元件 氢扩散阻挡层 物种 氢离子 气体离子 中性原子 离子流 氢吸收 阻挡层 输运 体物 离子 损伤 扩散 替代 制造 | ||
1.一种设备，包括用于产生EUV辐射的系统的部件，所述部件在用于产生EUV辐射的所述系统的操作期间被暴露至氢离子，所述部件包括氢扩散阻挡层，所述氢扩散阻挡层包括采用非氢气体的物种注入的区域。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述非氢气体的所述物种包括所述非氢气体的离子。
3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述非氢气体的所述离子包括惰性气体的离子。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述非氢气体的所述离子包括氦离子。
5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述非氢气体的所述物种包括所述非氢气体的能量中性原子。
6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述非氢气体的所述能量中性原子包括惰性气体的能量中性原子。
7.根据权利要求5所述的设备，其中，所述非氢气体的所述能量中性原子包括能量氦原子。
8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述部件包括收集器镜面的至少一部分。
9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述收集器镜面是法向入射镜面。
10.根据权利要求8所述的设备，其中，所述收集器镜面是多层镜面。
11.根据权利要求1所述的设备，其中，所述部件包括刻线板、检测器、显微镜、检查系统、薄膜、真空腔室衬层、真空腔室叶片、以及微滴发生器中的一个的至少一部分。
12.一种多层镜面，其在用于产生EUV辐射的系统中使用，所述多层镜面在用于产生EUV辐射的所述系统的操作期间被暴露至氢离子，所述多层镜面包括：
衬底；
背衬层，在所述衬底上；以及
多层涂层，在所述背衬层上，
其中所述背衬层和所述多层涂层中的一个包括氢扩散阻挡层，所述氢扩散阻挡层包括采用非氢气体的物种注入的区域。
13.根据权利要求12所述的多层镜面，其中，所述非氢气体的物种包括所述非氢气体的离子。
14.根据权利要求12所述的多层镜面，其中，所述非氢气体的物种包括所述非氢气体的能量中性原子。
15.根据权利要求12所述的多层镜面，其中，所述非氢气体包括惰性气体。
16.根据权利要求15所述的多层镜面，其中，所述惰性气体包括氦。
17.一种多层镜面，其在用于产生EUV辐射的系统中使用，所述多层镜面在用于产生EUV辐射的所述系统的操作期间被暴露至氢离子，所述多层镜面包括：
衬底；以及
涂层，在所述衬底上，所述涂层包括多个层；
其中所述多个层中的至少一个层是采用惰性气体的物种被注入的。
18.根据权利要求17所述的多层镜面，其中，所述非氢气体的所述物种包括所述非氢气体的离子。
19.根据权利要求17所述的多层镜面，其中，所述非氢气体的所述物种包括所述非氢气体的能量中性原子。
20.根据权利要求17所述的多层镜面，其中，所述非氢气体包括惰性气体。
21.根据权利要求20所述的多层镜面，其中，所述惰性气体包括氦。
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