[发明专利]控制图案形成过程的方法、器件制造方法、用于光刻设备的控制系统以及光刻设备

权利要求书

1.一种控制图案形成过程的方法，包括：

(a)测量提供在衬底上的多个位置测量标记的位置；

(b)使用所测量的位置来限定衬底校正；

(c)在控制所述图案形成过程中使用所述衬底校正来将图案施加到所述衬底上；

(d)使用所施加的图案中包括的多个性能测量目标，用于测量所述图案形成过程的性能参数；和

(e)在处理多个衬底之后，使用所测量的性能参数来计算过程校正并且将所述过程校正与步骤(c)中的所述衬底校正一起使用，

其中所述方法还包括，在设定阶段中，

(i)通过参考所述图案形成过程的预期参数，从多个候选标记类型中选择用于所述图案形成过程的一种类型的位置测量标记；

(ii)使用所述图案形成过程将测试图案施加于多个衬底，所述测试图案包括多个候选类型的性能测量目标；和

(iii)通过比较使用不同类型的性能测量目标测量的图案形成过程的性能和通过其他手段测量的图案形成过程的性能来选择优选的候选类型的性能测量目标，

并且其中所述方法在设定阶段中还包括：

(iv)基于实际执行步骤(ii)中的图案形成过程之后的位置测量标记和性能测量目标的测量，修正用于控制步骤(c)中的图案形成过程的位置测量标记类型的选择。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，至少在所述设定阶段期间在每个衬底上提供多个候选标记类型。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，除了在不同类型的位置测量标记之间进行选择之外，步骤(i)和/或(iv)还包括在用于位置测量方法的不同选配方案之间进行选择。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，步骤(ii)包括：通过参考所述图案形成过程的预期参数，从多个类型中为所述图案形成过程选择一个或更多个候选类型的性能测量目标。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法在所述设定阶段中还包括：

(v)基于实际执行步骤(ii)中的图案形成过程之后的位置测量标记和性能测量目标的测量，修正用于控制步骤(c)中的图案形成过程的性能测量目标类型的选择。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，除了在不同类型的性能测量目标之间进行选择之外，步骤(ii)和/或(v)还包括在用于性能测量方法的不同选配方案之间进行选择。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(e)中，在生产阶段，根据所选择的性能反馈策略，响应于来自新处理的衬底的所测量的性能参数，所述过程修正被逐步更新。

8.根据权利要求7所述的方法，还包括：

(vi)与使用所选择的性能反馈策略控制所述图案形成过程的性能并行，根据一个或更多个替代性的性能反馈策略计算替代性的过程校正，和

(vii)将使用所选择的性能反馈策略的图案形成过程的已实现的性能与使用替代性的性能反馈策略的图案形成过程的模拟性能进行比较，并切换到替代性的性能反馈策略，所述替代性的性能反馈策略的模拟性能将比已实现的性能更好。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括：

(viii)在切换到替代性的性能反馈策略之后，通过比较使用不同类型的性能测量标记测量的新性能反馈策略图案形成过程的稳定性来修正对优选的候选类型的性能测量目标的选择。