[发明专利]增材制造组合物在审

专利信息
申请号: 201680075998.9 申请日: 2016-12-22
公开(公告)号: CN108431095A 公开(公告)日: 2018-08-21
发明(设计)人: 迈克尔·斯蒂芬·奇肖姆 申请(专利权)人: 璐彩特国际特殊聚合物和树脂有限公司
主分类号: C08J3/12 分类号: C08J3/12;C08F2/22;C08F6/18;C08F279/02;C08F279/06;C08F283/12;C08F265/06;B29C67/00;B33Y70/00;B33Y10/00;C08L33/04;C08L51/04;C08L51/08
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 牟静芳;郑霞
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要:
搜索关键词: 聚合物珠 抗冲改性 抗冲改性剂 三维产品 制造 悬浮聚合工艺 聚合物基质 聚合物颗粒 丙烯酸类 制造工艺 粉末床 乙烯基 制造盒 料斗 熔融 替换 生产
【权利要求书】:

1.一种用于粉末床工艺的增材制造组合物,包含至少第一类型的抗冲改性的聚合物珠,其中所述聚合物珠包含

a)丙烯酸类或乙烯基(共)聚合物基质,和

b)抗冲改性剂;

其中至少85%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有在≥20μm且≤200μm之间的粒度。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中至少85%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有在≥20μm且≤125μm之间的粒度,更典型地,至少90%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有在≥20μm且≤125μm之间的粒度,最典型地,至少99%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有至少5μm的粒度。

3.一种增材制造组合物,包含至少第一类型的抗冲改性的聚合物珠,其中所述聚合物珠包含

a)丙烯酸类或乙烯基(共)聚合物基质,和

b)抗冲改性剂;其中所述抗冲改性的聚合物珠平均包含大于5%w/w的抗冲改性剂。

4.根据权利要求3所述的组合物,其中至少85%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有在≥20μm且≤200μm之间的粒度,典型地,其中至少85%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有在≥20μm且≤125μm之间的粒度,更典型地,至少90%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有在≥20μm且≤125μm之间的粒度,最典型地,至少99%w/w的所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠具有至少5μm的粒度。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的组合物,其中所述第一类型的抗冲改性的聚合物珠的d50粒度是≥40μm且≤90μm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的组合物,其中所述抗冲改性剂选自由以下组成的组:丙烯酸类(例如丙烯酸正丁酯-苯乙烯)改性剂、苯乙烯类(例如MBS和SBR)改性剂、有机硅类(包括有机硅-丙烯酸类)改性剂、丁腈橡胶类改性剂、异戊二烯类改性剂、丁二烯类改性剂、异丁烯类改性剂和脂肪族聚氨酯类改性剂、聚醚低聚物类改性剂和聚酯低聚物类改性剂。

7.根据任一前述权利要求所述的组合物,其中在组分a)中,所述(共)聚合物包含所述(共)聚合物的按重量计70%-100%的(烃基)丙烯酸烃基酯和/或苯乙烯残基、以及按重量计0%-30%的一种或更多种其他乙烯基单体残基。

8.根据任一前述权利要求所述的组合物,其中所述聚合物珠中所述抗冲改性剂的量为至多60wt%,例如在5wt%至50wt%之间,典型地在7.5wt%至40wt%之间。

9.根据任一前述权利要求所述的组合物,还包含流动改性剂和/或抗静电剂。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的组合物,其中所述抗冲改性剂是交联的,或者以其他方式基本上不溶于或微溶于用于形成部分a)的所述(共)聚合物珠基质的(共聚)单体中,或者是具有≤10000、更典型地≤5000、最典型地≤3000的分子量(Mw)的低聚物或反应性低聚物。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的组合物,其中所述抗冲改性剂在所述珠中形成弹性体区域,并且所述丙烯酸类或乙烯基(共)聚合物基质任选地在所述珠中形成连续相。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的组合物,其中所述抗冲改性剂选自以下中的一种或更多种:-具有在1000和10000之间的Mw的(共)聚合物、低聚物或反应性低聚物、以及核-壳型抗冲改性剂。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的组合物,其中所述组合物包含一种或更多种另外类型的抗冲改性的聚合物珠。

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