[发明专利]涂覆的切削工具和方法有效
申请号: | 201680073450.0 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN108368601B | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 拉尔斯·约翰逊 | 申请(专利权)人: | 山特维克知识产权股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/32;C23C30/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王潜;郭国清 |
地址: | 瑞典桑*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 切削 工具 方法 | ||
1.一种涂覆的切削工具,所述涂覆的切削工具包括基材和涂层,其中所述涂层包括PVD层(A),所述PVD层(A)为式Ti1-xSixCaNbOc的化合物,0.10x≤0.30,0≤a≤0.75,0.25≤b≤1,0≤c≤0.2,a+b+c=1,其中所述PVD层(A)为NaCl结构固溶体,所述PVD层(A)在X射线衍射中的立方(111)峰的FWHM值≤0.35度(2θ)。
2.根据权利要求1所述的涂覆的切削工具,其中在所述式Ti1-xSixCaNbOc中,0.12≤x≤0.25。
3.根据权利要求1至2中的任一项所述的涂覆的切削工具,其中所述PVD层(A)在X射线衍射中的立方(111)峰的FWHM值≤0.25度(2θ)。
4.根据权利要求1至2中的任一项所述的涂覆的切削工具,其中所述PVD层(A)具有-3GPa的残余应力。
5.根据权利要求1至2中的任一项所述的涂覆的切削工具,其中所述PVD层(A)在其表面上包含小面化晶粒。
6.根据权利要求1至2中的任一项所述的涂覆的切削工具,其中所述PVD层(A)的厚度为0.5μm至20μm。
7.根据权利要求1至2中的任一项所述的涂覆的切削工具,其中所述PVD层(A)是电弧蒸发沉积层。
8.一种在基材上制造涂层的方法,所述涂层包括通过阴极电弧蒸发沉积的PVD层(A),所述PVD层(A)为式Ti1-xSixCaNbOc的化合物,0.10x≤0.30,0≤a≤0.75,0.25≤b≤1,0≤c≤0.2,a+b+c=1,且其中所述PVD层(A)为NaCl结构固溶体,并且所述PVD层(A)在X射线衍射中的立方(111)峰的FWHM值≤0.35度(2θ),通过施加-40V至-450V的脉冲偏置电压到所述基材上并使用小于12%的占空比和小于10kHz的脉冲偏置频率来沉积所述PVD层(A)。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述占空比为2%至10%。
10.根据权利要求8至9中的任一项所述的方法,其中所述脉冲偏置频率为0.1kHz至8kHz。
11.根据权利要求8至9中的任一项所述的方法,其中所述脉冲偏置电压为-50V至-350V。
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