[发明专利]防反射光学体的形成方法、显示面板及光学膜有效
| 申请号： | 201680072490.3 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN108369292B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 梶谷俊一 | 申请（专利权）人： | 迪睿合电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;B32B7/023;B32B7/06;B32B9/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 包跃华;金玉兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 光学 形成 方法 显示 面板 | ||
1.一种防反射光学体的形成方法，其特征在于，为防反射光学体在被粘体上的形成方法，所述防反射光学体的形成方法包括：
涂布工序，在所述被粘体的一面涂布光固化性树脂；
按压工序，利用透光的光引导装置将在一面侧具备微细结构体的基材膜从与所述一面相对的另一面侧向所述光固化性树脂按压；
固化工序，在利用所述光引导装置按压所述基材膜的状态下，使光在所述光引导装置传导而使所述光固化性树脂固化；以及
剥离分离工序，通过解除所述基材膜的按压，并一边将由固化了的所述光固化性树脂而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述光固化性树脂固着的位置以外的微细结构体分离，一边使由固化了的所述光固化性树脂而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离，从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。
2.一种防反射光学体的形成方法，其特征在于，为防反射光学体在被粘体上的形成方法，所述防反射光学体的形成方法包括：
按压工序，利用透光的光引导装置将在一面侧具备微细结构体并在该微细结构体之上形成有半固化的光固化性树脂层的基材膜从与所述一面相对的另一面侧向所述被粘体按压；
固化工序，在利用所述光引导装置按压所述基材膜的状态下，使光在所述光引导装置传导而使所述光固化性树脂层固化；以及
剥离分离工序，通过解除所述基材膜的按压，并一边将由固化了的所述光固化性树脂层而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述光固化性树脂层固着的位置以外的微细结构体分离，一边使由固化了的所述光固化性树脂层而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离，从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。
3.根据权利要求1或2所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
所述微细结构体在所述基材膜侧的一面和与所述一面相对的另一面形成有微细结构。
4.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
在所述基材膜上形成有具有凹凸图案的微细凹凸层，
在所述微细凹凸层上形成有无机膜，
在所述无机膜上形成有所述微细结构体。
5.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
所述微细结构体的厚度为10μm以下，所述微细结构体具有可见光波长以下的间距的凹凸图案。
6.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
将所述基材膜向所述被粘体按压的压力为0.5MPa以上。
7.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
所述防反射光学体具备紫外线透过性。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪睿合电子材料有限公司，未经迪睿合电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680072490.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
