[发明专利]形成用于亚分辨率基板图案化的蚀刻掩模的方法

权利要求书

1.一种图案化基板的方法，所述方法包括：

在基板上形成图案化硬掩模层，所述图案化硬掩模层包括遮蔽下层的一部分的硬掩模材料，所述图案化硬掩模层包括填充所述图案化硬掩模层的其余部分的填充材料，所述填充材料相对于所述硬掩模材料具有不同的蚀刻阻性；

在所述图案化硬掩模层上方形成多线层，所述多线层包括具有两种或更多种不同材料的交替线图案的区域，其中，每条线具有水平厚度、垂直高度并且跨所述图案化硬掩模层延伸，其中，所述交替线图案的每条线在所述多线层的顶表面上未被覆盖并且垂直延伸至所述多线层的底表面，其中，所述两种或更多种不同材料中的至少两种通过相对于彼此具有不同的蚀刻阻性而在化学上彼此不同；以及

选择性地移除所述两种或更多种不同材料中的至少一种，从而导致所述图案化硬掩模层的一部分未被覆盖。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料包括三种或更多种不同材料，其中，选择性地移除所述两种或更多种不同材料中的至少一种包括：选择性地移除所述三种或更多种不同材料中的两种，从而导致所述图案化硬掩模层的对应部分未被覆盖。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料包括四种或更多种不同材料，其中，选择性地移除所述两种或更多种不同材料中的至少一种包括：选择性地移除所述四种或更多种不同材料中的两种，从而导致所述图案化硬掩模层的对应部分未被覆盖。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料的交替线图案包括A-B-A-B的重复序列，其中，材料A和材料B相对于彼此具有不同的蚀刻阻性。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料的交替线图案包括A-B-C-B-A-B-C-B的重复序列，其中，材料A和材料B相对于彼此具有不同的蚀刻阻性。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，材料C相对于材料A和材料B具有不同的蚀刻阻性。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料的交替线图案包括A-B-C-D-C-B-A-B-C-D-C-B的重复序列，其中，材料A、材料B、材料C和材料D中的至少两种相对于彼此具有不同的蚀刻阻性。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述图案化硬掩模包括：形成硬掩模材料的浮雕图案，并且使用所述填充材料平坦化硬掩模层。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述硬掩模材料包括金属。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述多线层包括：

提供具有位于硬掩模层上的芯轴的所述基板，所述芯轴由第一材料构成；

在所述芯轴的暴露侧壁上形成第一侧壁间隔物，所述第一侧壁间隔物由第二材料构成；

在所述第一侧壁间隔物的暴露侧壁上形成第二侧壁间隔物，所述第二侧壁间隔物由第三材料构成；以及

形成填充结构，所述填充结构填充在所述第二侧壁间隔物的彼此面对的暴露侧壁之间限定的开放空间，所述填充结构由第四材料构成，其中，所述芯轴、所述第一侧壁间隔物、所述第二侧壁间隔物和所述填充结构的顶表面全部未被覆盖，并且其中，所述第一材料、所述第二材料、所述第三材料和所述第四材料中的至少两种材料在化学上彼此不同。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述多线层包括：

提供具有位于硬掩模层上的芯轴的所述基板，所述芯轴由第一材料构成；

在所述芯轴的暴露侧壁上形成第一侧壁间隔物，所述第一侧壁间隔物由第二材料构成；以及

形成填充结构，所述填充结构填充在所述第一侧壁间隔物的彼此面对的暴露侧壁之间限定的开放空间，所述填充结构由第四材料构成，其中，所述芯轴、所述第一侧壁间隔物和所述填充结构的顶表面全部未被覆盖，并且其中，所述第一材料、所述第二材料和所述第四材料中的至少两种材料在化学上彼此不同。