[发明专利]用于钯的化学浸镀的镀浴组合物及方法

权利要求书

1.一种用于钯的化学沉积的水性镀浴组合物，所述水性镀浴组合物包含：

(i)至少一种钯离子的源，

(ii)至少一种钯离子的还原剂，和

(iii)至少一种不饱和化合物，所述不饱和化合物选自根据式(I)和(II)的化合物、其盐以及前述物质的混合物，

其中R1、R3、R5彼此独立地选自-H；未取代的或取代的直链C1至C20烷基基团；未取代的或取代的支链C3至C20烷基基团；和未取代的或取代的芳基基团；并且

其中R2、R4彼此独立地选自-H；未取代的或取代的直链C1至C20烷基基团；未取代的或取代的支链C3至C20烷基基团；未取代的或取代的芳基基团；和–(CH(R10))_n–X–(C(R8)(R9))_m–R7；并且其中如果R4是–H则R2不是–H或者如果R2是–H则R4不是–H；并且

其中R6选自未取代的或取代的直链C1至C20烷基基团；未取代的或取代的支链C3至C20烷基基团；未取代的或取代的芳基基团；和–(CH(R10))_n–X–(C(R8)(R9))_m–R7；并且

其中X选自O，NH和NCH₃；R7选自羟基，氨基，磺酸，羧基；R8、R9、R10彼此独立地选自氢和C1至C4烷基基团；n是1至6范围内的整数；并且m是1至8范围内的整数，并且

其中所述取代的直链C1至C20烷基基团、所述取代的支链C3至C20烷基基团或所述取代的芳基基团的取代基彼此独立地选自羟基，醛，磺酸，巯基，甲氧基，乙氧基，卤素，烯丙基，乙烯基，苯基，吡啶基和萘基基团，并且

其中根据R7的所述氨基基团选自–NH(R11)，–N(R11)(R12)，–N⁺(R11)(R12)(R13)，其中R11、R12、R13彼此独立地选自甲基，乙基，正丙基和异丙基；并且

其中所述水性镀浴组合物还包含至少一种选自伯胺、仲胺和叔胺的钯离子的络合剂。

2.根据权利要求1所述的水性镀浴组合物，其中R1、R3、R5彼此独立地选自–H；未取代的或取代的直链C1至C10烷基基团；未取代的或取代的支链C3至C10烷基基团；和未取代的或取代的芳基基团；并且

其中R2、R4彼此独立地选自–H；未取代的或取代的直链C1至C10烷基基团；未取代的或取代的支链C3至C10烷基基团；未取代的或取代的芳基基团；和–(CH(R10))_n–X–(C(R8)(R9))_m–R7；并且其中如果R4是–H则R2不是–H或者如果R2是–H则R4不是–H；并且

其中R6选自未取代的或取代的直链C1至C10烷基基团；未取代的或取代的支链C3至C10烷基基团；未取代的或取代的芳基基团；和–(CH(R10))_n–X–(C(R8)(R9))_m–R7；并且

其中X选自O和NH；R7选自羟基，氨基，磺酸，羧基；R8、R9、R10彼此独立地选自氢，甲基和乙基基团；n是1至4范围内的整数；并且m是1至6范围内的整数，并且

其中根据R7的所述氨基基团选自–NH(R11)，–N(R11)(R12)，–N⁺(R11)(R12)(R13)，其中R11、R12、R13彼此独立地选自甲基，乙基，正丙基和异丙基。

3.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中根据R1、R2、R3、R4、R5、R6的所述未取代的或取代的芳基基团彼此独立地选自苯基，吡啶基和萘基。

4.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中所述至少一种根据式(I)和/或(II)的不饱和化合物选自丙-2-烯-1-醇，3-甲基丁-3-烯-1-醇，丙-2-炔-1-醇，3-(丙-2-炔-1-基氧基)丙烷-1-磺酸，3-(丙-2-炔-1-基氨基)-丙烷-1-磺酸，4-(丙-2-炔-1-基氧基)丁烷-1-磺酸，4-(丁-3-炔-1-基氧基)丁烷-1-磺酸，2-(吡啶-3-基)丁-3-炔-2-醇，2-(丙-2-炔-1-基氧基)乙烷-1-醇，2-(丙-2-炔-1-基氧基)-乙酸和2-(丙-2-炔-1-基氧基)丙酸。