[发明专利]用于钯的化学浸镀的镀浴组合物和方法

权利要求书

1.一种用于钯的化学沉积的水性镀浴组合物，所述水性镀浴组合物包含：

(i)至少一种钯离子的源，

(ii)至少一种用于钯离子的还原剂，以及

(iii)至少一种含氰化物基团的芳香族化合物，所述含氰化物基团的芳香族化合物选自根据式(I)的化合物、其盐以及上述物质的混合物；和/或至少一种含氰化物基团的芳香族化合物，所述含氰化物基团的芳香族化合物选自根据式(II)的化合物、其盐以及上述物质的混合物；

其中R1、R2、R3、R4、R5、R6彼此独立地选自R7、–H、C1至C6烷基基团、C1至C6烷氧基基团、氨基、醛、巯基、硫化物基团、卤素、烯丙基、乙烯基、乙炔基、丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、2-乙炔基苯、苯基、吡啶基和萘基基团；其中R1至R6中的至少一者是R7；

其中R7是根据式(III)的部分，

其中每个R8独立地选自–H、C1至C6烷基基团、羟基、C1至C6烷氧基基团、氨基、巯基和硫化物基团；其中n是0至4范围内的整数；并且

其中X选自N和C–R13；

其中Y选自N和C–R14；其中X或Y中的至少一者是N；

其中R9、R10、R11、R12、R13、R14彼此独立地选自R15、–H、C1至C6烷基基团、羟基、C1至C6烷氧基基团、氨基、醛、羧基、酯、磺酸、巯基、硫化物基团、卤素、烯丙基、乙烯基、乙炔基、丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、2-乙炔基苯、苯基、吡啶基和萘基基团；其中R9至R14中的至少一者是R15；

其中R15是根据式(IV)的部分，

其中每个R16独立地选自–H、C1至C6烷基基团、羟基、C1至C6烷氧基基团、氨基、巯基和硫化物基团；其中m是0至4范围内的整数，

其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R16的硫化物基团彼此独立地选自–SR19，其中R19选自甲基、乙基、正丙基和异丙基，并且

其中如果X或Y中的至少一者是N，则R15处于根据式(II)的所述芳香环内相对于N的邻位或间位位置处。

2.根据权利要求1所述的水性镀浴组合物，其中n是0。

3.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中R1至R6中的至少一者是卤素。

4.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中R1至R6中的至少一者是卤素，并且R1至R6中的至少一者是氨基。

5.根据权利要求1所述的水性镀浴组合物，其中如果Y是N，则X不是N；或者如果X是N，则Y不是N。

6.根据权利要求1或5所述的水性镀浴组合物，其中m是选自0或1的整数。

7.根据权利要求1或5所述的水性镀浴组合物，其中当如果Y是N则X不是N，或者当如果X是N则Y不是N时，R15处于根据式(II)的芳香环内相对于N的间位位置处。

8.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中所述至少一种根据式(I)的含氰化物基团的芳香族化合物选自3-氯苯甲腈、4-氨基-2-氯苯甲腈、2-羟基-2-(吡啶-3-基)乙腈、2-氨基-2-(吡啶-3-基)乙腈、吡啶甲腈、烟腈、吡啶-3,5-二甲腈、2-氨基吡啶-3,5-二甲腈和嘧啶-2-甲腈。

9.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中所述至少一种根据式(I)的含氰化物基团的芳香族化合物具有0.01mg/l至100mg/l范围内的浓度。

10.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，其中pH值在4至7的范围内。

11.根据权利要求1或2所述的水性镀浴组合物，还包含至少一种选自伯胺、仲胺和叔胺的用于钯离子的络合剂。