[发明专利]从玻璃基材去除无机涂层

权利要求书

1.一种对玻璃基材上的无机层进行蚀刻的方法，该方法包括：

将包含无机层的玻璃基材与包含极性有机溶剂和蚀刻剂的蚀刻溶液接触，其中，以无机层蚀刻速率去除无机层，以及以玻璃蚀刻速率蚀刻玻璃基材。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，对极性溶剂进行选择，以促进无机层的蚀刻和控制玻璃蚀刻速率。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述蚀刻剂选自：HCl、NH₄HF₂、HF、NaOH、KOH、四甲基氢氧化铵，及其组合。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述极性有机溶剂选自低级脂族醇和低级亚烷基二醇。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述极性有机溶剂选自下组：甲醇、乙醇、丙醇、丙二醇、乙二醇，及其混合物。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述蚀刻溶液包括10-80重量％的极性有机溶剂，蚀刻剂，和水。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述蚀刻溶液包括25-75重量％的极性有机溶剂，蚀刻剂，和水。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述蚀刻剂包括水中的10％NaOH，以及极性溶剂包括丙二醇。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基材与所述蚀刻溶液在25-100℃的温度接触，持续30秒至5分钟的时间段。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述玻璃基材与所述蚀刻溶液在25-100℃的温度接触，持续30秒至5分钟的时间段。

11.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述玻璃基材包括已经通过化学强化和热强化中的一种或多种进行强化的玻璃组合物。

12.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述玻璃基材包括化学强化玻璃组合物，其具有压缩应力层，所述压缩用力层具有压缩层深度。

13.如权利要求9所述的方法，其特征在于，经过化学强化的玻璃组合物进行离子交换至至少约10μm的层深度。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，所述玻璃组合物是碱性铝硅酸盐玻璃，其包含至少约4摩尔％的P₂O₅。