[发明专利]形成用于亚分辨率衬底图案化的刻蚀掩模的方法

权利要求书

1.一种对衬底进行图案化的方法，所述方法包括：

在衬底的下层上形成多线层，所述多线层包括具有两种或更多种不同材料的交替线的图案的区域，其中，每个线具有水平厚度、竖直高度并且跨所述下层延伸，其中，所述交替线的图案的每个线在所述多线层的顶表面上均不被覆盖并且竖直延伸到所述多线层的底表面，其中，所述两种或更多种不同材料中的至少两种材料彼此在化学上的不同之处在于：相对于彼此具有不同的抗刻蚀性；

在所述多线层上形成图案化的掩模层，所述图案化的掩模层包括掩盖所述多线层的一部分的掩模材料；以及

选择性地去除所述两种或更多种不同材料中的至少一种，使得所述下层的一部分不被覆盖。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料包括三种或更多种不同材料，其中，选择性地去除所述两种或更多种不同材料中的至少一种包括：选择性地去除所述三种或更多种不同材料中的两种，使得所述下层的相应部分不被覆盖。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料包括四种或更多种不同材料，其中，选择性地去除所述两种或更多种不同材料中的至少一种包括：选择性地去除所述四种或更多种不同材料中的两种，使得所述下层的相应部分不被覆盖。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料的交替线的图案包括A-B-A-B的重复序列，其中，材料A和材料B相对于彼此具有不同的抗刻蚀性。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料的交替线的图案包括A-B-C-B-A-B-C-B的重复序列，其中，材料A和材料B相对于彼此具有不同的抗刻蚀性。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，材料C相对于材料A和材料B具有不同的抗刻蚀性。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述两种或更多种不同材料的交替线的图案包括A-B-C-D-C-B-A-B-C-D-C-B的重复序列，其中，材料A、材料B、材料C和材料D中的至少两种材料相对于彼此具有不同的抗刻蚀性。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述图案化的掩模包括形成掩模材料的凹凸图案。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述掩模材料包括金属。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述多线层包括：

提供具有位于所述下层上的心轴的衬底，所述心轴包括第一材料；

在所述心轴的暴露的侧壁上形成第一侧壁间隔件，所述第一侧壁间隔件包括第二材料；

在所述第一侧壁间隔件的暴露的侧壁上形成第二侧壁间隔件，所述第二侧壁间隔件包括第三材料；以及

形成填充结构，所述填充结构填充限定在彼此面对的所述第二侧壁间隔件的暴露的侧壁之间的开放空间，所述填充结构包括第四材料，其中，所述心轴、所述第一侧壁间隔件、所述第二侧壁间隔件和所述填充结构的顶表面均不被覆盖，并且其中，所述第一材料、所述第二材料、所述第三材料和所述第四材料中的至少两种材料彼此在化学上不同。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述多线层包括：

提供具有位于所述下层上的心轴的衬底，所述心轴包括第一材料；

在所述心轴的暴露的侧壁上形成第一侧壁间隔件，所述第一侧壁间隔件包括第二材料；以及

形成填充结构，所述填充结构填充限定在彼此面对的所述第一侧壁间隔件的暴露侧壁之间的开放空间，所述填充结构包括第四材料，其中，所述心轴、所述第一侧壁间隔件和所述填充结构的顶表面均不被覆盖，并且其中，所述第一材料、所述第二材料和所述第四材料中的至少两种材料彼此在化学上不同。