[发明专利]光波的波形测量装置和方法有效
申请号: | 201680067793.6 | 申请日: | 2016-11-18 |
公开(公告)号: | CN108291842B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 金坰泽;南昌熙;朴升凡;曹优植;金敬承 | 申请(专利权)人: | 基础科学研究院;光州科学技术院 |
主分类号: | G01J9/02 | 分类号: | G01J9/02;G02B27/14 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 李盛泉;孙昌浩 |
地址: | 韩国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光波 波形 测量 装置 方法 | ||
1.一种光波形测量装置,其中,包括:
脉冲分离部,将输入光波分离为基础脉冲和信号脉冲;
脉冲强度调整部,调整所述基础脉冲的强度和/或所述信号脉冲的强度,其中,所述信号脉冲的强度是所述基础脉冲强度的0.1%~20%;
时间延迟调整部,调整所述基础脉冲和所述信号脉冲之间的时间延迟;
聚焦部,将调整时间延迟的所述基础脉冲和所述信号脉冲聚焦到电离物质;以及
电离量测量部,通过聚焦的所述基础脉冲以及所述信号脉冲从所述电离物质生成的电子和/或离子测量流入电极的电流的大小,并基于测量的电流的大小测量电离量,
其中,所述光波形测量装置从电离变化量获取所述输入光波的波形,并且所述信号脉冲的强度小于所述基础脉冲的强度,所述电离变化量基于根据时间延迟的所述信号脉冲而变化。
2.如权利要求1所述的光波形测量装置,其中,
所述输入光波的波形由通过下述的[数学式3]计算出的信号脉冲的波形获取:
[数学式3]
在所述[数学式3]中,δN(τ)表示根据所述时间延迟τ而由于信号脉冲变化的所述电离变化量,N(τ)表示根据时间间距τ而测量的所述电离量,N0表示仅利用基础脉冲生成的所述电离量,g(t-τ)表示针对所述基础脉冲(F(t-τ))的所述强度的电离率的微分值,ES(t)表示信号脉冲的波形。
3.如权利要求1所述的光波形测量装置,其中,
所述电离物质包括气体、金属或者布置于基板上的纳米结构物。
4.如权利要求1所述的光波形测量装置,其中,
所述脉冲分离部包括第一区域和第二区域,
所述第一区域使所述输入光波的一部分反射而生成基础脉冲,以及
所述第二区域使所述输入光波的一部分反射而生成信号脉冲。
5.如权利要求4所述的光波形测量装置,其中,
所述时间延迟调整部使所述第一区域的位置移动或所述第二区域的位置移动,从而调整所述基础脉冲和所述信号脉冲之间的时间延迟。
6.如权利要求1所述的光波形测量装置,其中,包括:
第二脉冲分离部,使所述基础脉冲分离为第一基础脉冲和第二基础脉冲;
第二聚焦部,使所述第二基础脉冲聚焦到第二电离物质;以及
第二电离量测量部,用于测量第二电离量,所述第二电离量产生于被第二基础脉冲所聚焦的第二电离物质,
所述聚焦部将所述第一基础脉冲和所述信号脉冲聚焦到电离物质,
所述电离量测量部测量被所述第一基础脉冲和所述信号脉冲所聚焦的所述电离物质中产生的所述电离量。
7.如权利要求1所述的光波形测量装置,其中,包括:
第二聚焦部,仅将所述基础脉冲聚焦到第二电离物质;以及
第二电离量测量部,测量仅被所述基础脉冲所聚焦的所述第二电离物质中产生的第二电离量。
8.如权利要求6或7所述的光波形测量装置,其中,
通过获取标准化的电离变化量来获取所述输入光波的波形,其中,所述标准化的电离变化量由所述电离量以及所述第二电离量获得。
9.一种光波形测量装置,其中,包括:
脉冲分离部,将输入光波分离为基础脉冲和信号脉冲,并将所述基础脉冲和所述信号脉冲聚焦到电离物质;
脉冲强度调整部,调整所述基础脉冲的强度和/或所述信号脉冲的强度,其中,所述信号脉冲的强度是所述基础脉冲强度的0.1%~20%;
时间延迟调整部,调整所述基础脉冲和所述信号脉冲之间的时间延迟;
电离量测量部,通过聚焦的所述基础脉冲和所述信号脉冲从所述电离物质生成的电子和/或离子测量流入电极的电流的大小,并基于测量的电流的大小测量电离量,
所述光波形测量装置根据所述时间延迟而获取通过所述信号脉冲而变化的电离变化量,从而获取所述输入光波的波形,并且所述信号脉冲的强度小于所述基础脉冲的强度。
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