[发明专利]涂布装置、制造装置及测定方法

权利要求书

1.一种涂布装置，用于对长条带状的基材的表面涂布材料，其特征在于，

所述涂布装置具有：

支承辊，在圆筒状的吸附面上直接保持基材或在圆筒状的吸附面上经由其他片材来保持基材；

旋转驱动部，使所述支承辊以所述支承辊的轴心为中心旋转；

喷嘴，具有向被所述支承辊保持的基材喷出材料的喷出口；

进退机构，使所述喷出口在与材料的喷出方向平行的第一方向上进退；

测定部，测定从所述喷出口至所述吸附面的在所述第一方向上的距离的变化量；

控制部，基于所述测定部的测定结果，控制所述进退机构；以及

圆筒状的被测定面，与所述吸附面一同旋转，

所述吸附面及所述被测定面中，仅在所述吸附面设置有多个吸附孔，

所述测定部具有与所述被测定面接触的测定件。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，

所述涂布装置还具有卷绕在所述吸附面的一部分上的保护膜，

所述保护膜的表面成为所述被测定面。

3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，

所述保护膜的厚度与基材的厚度近似相同。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述吸附面具有保持基材的保持区域，

所述被测定面在与所述轴心平行的第二方向上被设置在不同于所述保持区域的位置。

5.根据权利要求4所述的涂布装置，其特征在于，

在所述保持区域的所述第二方向的两侧设置有一对所述被测定面，

所述测定部具有与一对所述被测定面接触的一对所述测定件。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述测定部具有相对于所述喷嘴静止的测定部本体，

所述测定件相对于所述测定部本体进退。

7.根据权利要求6所述的涂布装置，其特征在于，

所述测定件相对于所述测定部本体在所述第一方向上进退。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述测定部具有测定部本体，所述测定部本体被固定在不与所述喷嘴一同移动的位置上，

所述测定件相对于所述测定部本体进退。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述测定件朝向所述支承辊的所述轴心。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述测定件具有能够以与所述支承辊的所述轴心平行的轴为中心旋转的测定辊，

所述测定辊与所述被测定面接触。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述测定部具有将所述测定件按压在所述被测定面的气缸。

12.根据权利要求1至9中任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述涂布装置还具有加热部，所述加热部用于加热被所述支承辊保持的基材。

13.一种制造装置，用于制造在电解质膜的表面形成有触媒层的膜-触媒层接合体，其特征在于，

所述制造装置具有：

权利要求1至12中任一项所述的涂布装置；

导入部，将包含电解质膜的层的基材导入所述涂布装置；以及

回收部，从所述涂布装置回收基材，

所述喷嘴向被所述支承辊保持的基材喷出触媒材料。

14.一种测定方法，在通过将基材直接或经由其他片材保持在旋转的支承辊的圆筒状的吸附面上并从喷出口喷出材料，从而对基材的表面涂布材料的装置中，测定从所述喷出口至所述吸附面的距离的变化量，其特征在于，

所述测定方法具有：

a)使测定件接触与所述吸附面一同旋转的圆筒状的被测定面的工序；以及

b)基于所述测定件的位移，计算从所述喷出口至所述吸附面的距离的变化量的工序，

所述吸附面及所述被测定面中，仅在所述吸附面设置有多个吸附孔。