[发明专利]液处理装置

权利要求书

1.一种液处理装置，其特征在于，包括：

使用处理液处理基片的处理部；

对所述处理部供给第1处理液的第1供给通路；

用于对所述第1供给通路供给第1处理液的第1设备；

对所述处理部供给比所述第1处理液温度高的第2处理液的第2供给通路；

用于对所述第2供给通路供给第2处理液的第2设备；

收纳所述处理部的壳体；和

与所述壳体相邻的外部壳体，其收纳所述第1设备和所述第2设备，

所述外部壳体在所述第1设备与所述第2设备之间具有分隔壁。

2.如权利要求1所述的液处理装置，其特征在于：

所述处理部包括第1处理部和第2处理部，

所述壳体包括与所述第1处理部和所述第2处理部相邻的运送部，该运送部对所述第1处理部和所述第2处理部送入送出所述基片，

所述外部壳体与所述第1处理部相邻。

3.如权利要求2所述的液处理装置，其特征在于：

所述外部壳体包括：与所述第1处理部相邻的供给部；和与所述运送部相邻并且与所述供给部也相邻的接口部，

所述第2供给通路包括：对所述第1处理部供给所述第2处理液的第一个第2供给通路；和对所述第2处理部供给所述第2处理液的第二个第2供给通路，

所述第一个第2供给通路和所述第二个第2供给通路经由所述接口部连接于所述壳体。

4.如权利要求3所述的液处理装置，其特征在于：

所述第1供给通路不经由所述接口部地与所述第1处理部连接。

5.如权利要求1所述的液处理装置，其特征在于：

所述第1设备包括调节在所述第1供给通路中流通的所述第1处理液的流量的阀，

所述第2设备包括：贮存所述第2处理液的罐；将贮存在所述罐中的所述第2处理液向所述第2供给通路输送的泵；从在所述第2供给通路中流通的所述第2处理液除去异物的过滤器；和对在所述第2供给通路中流通的所述第2处理液进行加热的加热器。

6.如权利要求5所述的液处理装置，其特征在于：

所述处理部包括第1处理部和第2处理部，

所述第2供给通路包括：对所述第1处理部供给所述第2处理液的第一个第2供给通路；和对所述第2处理部供给所述第2处理液的第二个第2供给通路，

所述泵包括：将贮存在所述罐中的所述第2处理液向所述第一个第2供给通路送出的第1泵；和将贮存在所述罐中的所述第2处理液向所述第二个第2供给通路送出的第2泵，

所述过滤器包括：从在所述第一个第2供给通路中流通的所述第2处理液除去异物的第1过滤器；和从在所述第二个第2供给通路中流通的所述第2处理液除去异物的第2过滤器，

所述加热器包括：对在所述第一个第2供给通路中流通的所述第2处理液进行加热的第1加热器；和对在所述第二个第2供给通路中流通的所述第2处理液进行加热的第2加热器，

所述第1泵、所述第1过滤器和所述第1加热器，以及所述第2泵、所述第2过滤器和所述第2加热器分别以在高度方向上排列的方式配置，并且关于通过所述罐的铅垂轴对称地配置。

7.如权利要求6所述的液处理装置，其特征在于：

在所述外部壳体中，所述第一个第2供给通路的比所述第1加热器靠下游侧的流路和所述第二个第2供给通路的比所述第2加热器靠下游侧的流路，在比所述铅垂轴远离所述壳体的位置彼此靠近地配置。

8.如权利要求1所述的液处理装置，其特征在于：

所述第2供给通路是循环路径。

9.如权利要求1所述的液处理装置，其特征在于：

所述外部壳体被所述分隔壁分隔为靠近所述壳体的第1区域和比所述第1区域距所述壳体较远的第2区域，在所述第1区域中收纳所述第1设备，在所述第2区域中收纳所述第2设备。