[发明专利]振动隔离系统和光刻设备

说明书

本发明涉及一种振动隔离系统(VIS)，该振动隔离系统包括：基座(10)；用于联接到振动敏感物体的联接元件(20)；布置在基座与联接元件之间的振动隔离器(30‑34)；用于布置在联接元件或振动隔离器与包围振动敏感物体的保护壳体(40)之间的波纹管(50)；和作用在波纹管的回旋上的一个或更多个分离开的阻尼元件。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年11月10日递交的欧洲申请15193855.2的优先权，该欧洲专利申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种振动隔离系统和一种包括这种振动隔离系统的光刻设备。

背景技术

光刻设备是将所需的图案施加至衬底(通常为衬底的目标部分)上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，可替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生要在IC的单层上形成的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或多个管芯)上。通常通过成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上实现图案的转移。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器；在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每一个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。另外，能够通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。

在转移图案的过程中，振动可能使所转移的图像劣化。因此，重要的是，振动敏感光刻设备或其的振动敏感部件通过振动隔离系统支撑在基座上，该振动隔离系统将敏感部分与基座的振动隔离开。

然而，如果敏感部件要求除了环境(例如真空条件)以外的特定条件，则可以在可能通过振动隔离系统引入振动的敏感部件周围设置保护壳体。

发明内容

期望提供一种改善的振动隔离系统，该振动隔离系统将敏感部件与基座的振动以及保护壳体的振动隔离开。

根据本发明的一个实施例，提供了一种振动隔离系统，所述振动隔离系统包括：

基座；

用于联接到振动敏感物体的联接元件；

布置在所述基座与所述联接元件之间的振动隔离器；

用于布置在所述联接元件或所述振动隔离器与围绕所述振动敏感物体的保护壳体之间的波纹管；和

作用在所述波纹管的回旋上的一个或更多个分离开的阻尼元件，其中所述一个或更多个分离开的阻尼元件构造成对于预定的频率范围使包括所述分离开的阻尼元件的波纹管的组合的动态刚度降低到所述振动隔离器的动态刚度以下。

根据本发明的另一个实施例，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括：

基座框架；

支撑振动敏感设施的量测框架；

围绕所述量测框架的保护壳体，其中所述保护壳体由所述基座框架承载；

所述振动隔离系统，包括：

被安装到所述基座框架上或者是所述基座框架的一部分的基座；

联接到所述量测框架的联接元件；

布置在所述基座与所述联接元件之间的振动隔离器；

布置在所述联接元件或所述振动隔离器与所述保护壳体之间的波纹管；和

作用在所述波纹管的回旋上的一个或更多个分离开的阻尼元件，